Roman Pielaszek - Nanodyfrakcja rentgenowska

Chapter 5 Przykłady doświadczalne

W §5.2 przedstawiono użycie metod ab initio do określania mikrostruktury i jednowymiarowego nieuporządkowania w nanoproszkach SiC, w oparciu o prezentowane w części teoretycznej zmodyfikowane równanie Debye’a oraz algorytmy genetyczne.

W §5.3 wykorzystano metodę FW15/45M do wykonania dużej liczby oznaczeń rozkładu wielkości ziaren nanoproszków SiC i diamentu syntezowanych różnymi technikami. Zbadano korelacje pomiędzy metodą otrzymywania materiału a postacią rozkładu wielkości ziaren. Okazuje się, że względna szerokość rozkładu wielkości ziaren σR może być odciskiem palca metody syntezy nanoproszku.

W §5.4 pokazano, że rozpraszanie niskokątowe jest techniką komplementarną do badania profili refleksów bragowskich. Jest ono źródłem informacji o fraktalnej mikrostrukturze nanoproszków. Ustalono wartość masowego wymiaru fraktalnego oraz zbadano proces degeneracji (łamania) fraktala w czasie wysokociśnieniowego zagęszczania proszków SiC i diamentu.

Ostatnim doświadczeniem, opisanym w §5.5, jest wysokociśnieniowa przemiana strukturalna nanokryształów GaN polegająca na tworzeniu się błędów ułożenia. Zaproponowano prosty mechanizm relaksacji naprężeń polegający na losowych przesunięciach warstw (0001) kryształu. Symulacja takiego procesu relaksacji połączona z obliczeniami ab initio dyfraktogramów pozwala zrekonstruować obserwowane doświadczalnie linie dyfrakcyjne o asymetrycznych i złożonych profilach, a co za tym idzie - ilościowo opisać przemianę strukturalną.

Zebrany materiał doświadczalny został pomyślany przede wszystkim jako ilustracja podanego w części teoretycznej opisu dyfrakcji proszkowej uwzględniającego “najważniejszy z defektów” kryształu: jego brzeg. Rozdział ten stanowi jednocześnie przegląd informacji o mikrostrukturze nanokrystalicznych proszków SiC, diamentu i GaN oraz jej przemian pod wpływem wysokiego ciśnienia.

5.1 Definicje, materiały i metody

5.1.1 Struktura najgęstszego upakowania (close packing)

Struktura atomowa węglika krzemu SiC, azotku galu GaN i diamentu jest strukturą najgęstszego upakowania, podobnie jak w modelowej strukturze blendy cynkowej (ZnS), rys. 5.1. Sieć krystaliczna ZnS jest zbudowana z dwóch identycznych podsieci cynku i siarki. W węgliku krzemu są to odpowiednio podsieci węgla i krzemu. W diamencie obie podsieci są obsadzone atomami węgla.

a)Struktury b)Struktury c)Struktury
Struktury
Figure 5.1: Struktury wurcytu i sfalerytu: a) wurcyt, czyli α-ZnS z dwuwarstwową komórką typu 2H; b) sfaleryt, czyli β-ZnS narysowany jako trzywarstwowa komórka 3C; c) ten sam sfaleryt narysowany jako komórka kubiczna. Rys. za [50].

Wszystkie te materiały krystalizują w strukturze typu wurcytu (rys. 5.1a), typu sfalerytu11 1 Struktura sfalerytu, czyli kubiczna nazywana jest również strukturą regularną. Nazwy “kubiczna” i “regularna” są równoważne i stosowane w krystalografii równie często. W tej pracy będziemy używać pierwszej z nich. (rys. 5.1b), obu tych strukturach lub ich mieszaninie, tworząc kryształy z jednowymiarowym nieuporządkowaniem. Parametry sieci SiC, GaN i diamentu zestawiono w tabeli 5.1.

Struktura kubiczna 3C hexagonalna 2H 1 warstwa
a=b=c a=b c a=b co
SiC 4.3596 3.07521 5.048 3.07521 2.5109
diament 3.56683 2.5221 4.119 2.5221 2.05931
GaN 4.5027 3.189 5.186 3.189 2.595
Table 5.1: Parametry sieci SiC, GaN i diamentu [Å]. W strukturach kubicznej i hexagonalnej podane wartości mają sens rozmiaru komórki elementarnej kryształu. Parametr sieci c struktur nieuporządkowanych jednowymiarowo (z błędami ułożenia) ma wartość nieokreśloną, dlatego zamiast c podaje się dla takich struktur grubość pojedynczej warstwy hexagonalnej, oznaczoną tutaj co.

5.1.1.1 Węglik krzemu SiC

Węglik krzemu krystalizuje w strukturze blendy cynkowej, rys. 5.1a, (nazywanej też: “typ α”, “struktura wurcytu”) oraz w wielu jej politypowych modyfikacjach. Najczęściej spotykana jest odmiana politypowa 6H (6-cio warstwowa komórka elementarna o symetrii hexagonalnej), zwana α-SiC, która powstaje podczas gorącej syntezy SiC z pierwiastków. W warunkach wysokiego ciśnienia i temperatury SiC krystalizuje w postaci β-SiC, struktury typu sfalerytu (rys. 5.1b,c). Jest to struktura 3C o symetrii regularnej (znana też jako: “kubiczna”, “struktura sfalerytu”). Znany jest również cały szereg politypowych struktur SiC, np. 4H, 6H, 8H, 10H, 15R, 21R, 54R, 594R [49]. Węglik krzemu wyjątkowo krystalizuje także w strukturze 2H, czyli wurcytu. Nanokryształy 2H węglika krzemu zostały znalezione w meteorycie Murchison’a [5].

Mikrometrowe polikryształy SiC (rys. 5.6) otrzymuje się najczęściej na drodze bezpośredniej syntezy z pierwiastków (tzw. metoda SHS). Reakcja chemiczna mieszaniny rozdrobnionego węgla i krzemu:

Si+CSiC

przebiega w ciśnieniu atmosferycznym, jest silnie egzotermiczna i niekontrolowana (tj. przebiega gwałtownie aż do przereagowania wszystkich substratów) - stąd brak możliwości kontroli rozmiaru otrzymywanych krystalitów.

Węglik krzemu można otrzymać też w reakcji metanu z silanem (CH4+SiH4SiC+4H2). Płomień metanu w atmosferze silanu wytwarza duże ilości ciepła, gazowy wodór oraz nanokrystaliczny SiC o dużej czystości (poniżej 0.1% wolnego węgla i krzemu). Tą metodą zostały zsyntetyzowane próbki o symbolach k1, k2, k3 (rys. 5.7), k6 i k8 [20].

Gąbczasta mikrostruktura nanokrystalicznego
Gąbczasta mikrostruktura nanokrystalicznego
Figure 5.2: Gąbczasta mikrostruktura nanokrystalicznego SiC otrzymanego metodą rozkładu związków krzemoorganicznych i wygrzewania sieci ACC.

Kolejna technika polega na pirolizie związków krzemoorganicznych w kontrolowanych temperaturach. W temperaturze około 800°C następuje rozkład organicznego polimeru i utworzenie sieci nieorganicznych molekuł, tzw. amorficznej ceramiki kowalentnej (ACC, amorphous covalent ceramics), fazy podobnej do szkła. Następnie przez wygrzewanie ACC w temperaturach od 900 do 1500°C prowadzi się do kontrolowanego rozrostu ziaren SiC. Dobranie odpowiednich temperatur i czasów wygrzewania pozwala na otrzymanie nanokryształów o pożądanych rozmiarach (rys. 5.2). Materiał jest bardziej zanieczyszczony niż ten otrzymywany z płomienia, ale dzięki precyzyjnie kontrolowanym warunkom wzrostu ziarna mają mniejszy rozrzut wielkości. Tą metodą otrzymano próbki o symbolach 157k (rys. 5.2), ew3k i h1k [25].

5.1.1.2 Diament

Mikrometrowe i większe kryształy diamentu krystalizują w strukturze kubicznej i są klasycznym jej przykładem (“struktura diamentu”). Komórka elementarna diamentu jest identyczna z komórką SiC, w której wymieniono wszystkie atomy krzemu na węgle, lub z komórką β-ZnS z rys. 5.1c (po zamianie ZnC i SC). Jest to struktura o bardzo wysokiej symetrii, dlatego daje nieliczne linie dyfrakcyjne, z których pierwsza (111) przypada na dość odległą wartość wektora rozpraszania q=3.05Å-1. Kubiczny diament nanokrystaliczny posiada często błędy ułożenia, co upodabnia jego strukturę do hexagonalnej.

Nanokrystaliczny Nanokrystaliczny
Figure 5.3: Nanokrystaliczny diament zaglomerowany w struktury fraktalne.

Diament otrzymuje się z innych odmian węgla (np. z grafitu) w warunkach wysokiego ciśnienia i temperatury, często z dodatkami metali katalizującymi wzrost jego kryształów. Wysokociśnieniowe procesy syntezy diamentu mogą być w ogólności równowagowe (kwazistatyczne) lub nierównowagowe (dynamiczne). Do tych pierwszych zalicza się syntezę w prasach wysokociśnieniowych (np. toroidalnych) trwającą zazwyczaj godziny. Do tych drugich należy synteza nanokryształów diamentu podczas eksplozji odpowiednio przygotowanego materiału wybuchowego, rys. 5.3. Ten drugi proces trwa mikrosekundy i w odróżnieniu od pierwszego nie zapewnia jednolitych warunków ciśnienia i temperatury w całej objętości próbki. Istnieją dwie odmiany syntezy wybuchowej diamentu:

  • Tworzy się on z węgla zawartego w samym materiale wybuchowym. W tym przypadku diament syntezuje w całej objętości komory, w której następuje eksplozja. Ma postać luźnych (niezaglomerowanych) kryształów. W ten sposób zostały zsyntetyzowane próbki dia16, kl5 i kl30.

  • Diament tworzy się w wyniku przemiany fazowej grafitu w warunkach eksplozji. Tą techniką można otrzymać polikryształy zarówno nanometrowe jak i większe (nawet do mikrometrów). Polikryształy diamentu otrzymywane tą drogą są zaglomerowane i spieczone. Zawierają dużo błędów ułożenia. Próbka nazywana “dalan” jest komercyjnie dostępnym materiałem otrzymywanym tą techniką.

5.1.1.3 Azotek galu GaN

Stabilną fazą krystalograficzną objętościowych kryształów GaN jest w warunkach normalnych struktura wurcytu, nazywana też politypem 2H (rys. 5.1a). Wysokociśnieniową modyfikacją GaN powyżej 50GPa jest struktura soli kamiennej [52] (rys. 5.1b). Przy pomocy metod amonotermalnych (reakcja galu z amoniakiem w obecności soli amonu i odpowiedniej temperaturze) udało się otrzymać GaN o strukturze czysto kubicznej [46][19], jednak standardowo mikrometrowe kryształy GaN rosną w strukturze 2H ze sporadycznie występującymi błędami ułożenia. Wraz ze zmniejszaniem rozmiaru ziarna, poniżej 20-30nm obserwuje się zwiększanie liczby błędów ułożenia w tej strukturze.

Zaglomerowane bloki nanokrystalicznego
Zaglomerowane bloki nanokrystalicznego
Figure 5.4: Zaglomerowane bloki nanokrystalicznego GaN.

Badany nanokrystaliczny azotek galu (rys. 5.4) został otrzymany z pirolizy polimerów imidku galu, {Ga(NH)3/2}n w temperaturach od 600 do 1100°C [18].

5.1.2 Politypia

Zjawisko politypii zostało odkryte 90 lat temu. W roku 1912 Baumhauer [2] opisał zdolność materiału do krystalizowania w postaci struktur różniących się tylko w jednym kierunku krystalograficznym.

5.1.2.1 Warstwy politypowe

Pojedyncza warstwa leżących w jednej płaszczyźnie atomów lub cząsteczek, z których zbudowany jest kryształ, nazywana jest monowarstwą, monowarstwą molekularną lub po prostu warstwą. Np. węglik krzemu zbudowany jest z warstw zawierających pary Si-C, leżące w płaszczyźnie (0001), jak na rys. 5.5b. Monowarstwa diamentu składa się z par atomów węgla; azotku galu - z par Ga-N, itd.

a)(a) Struktura najgęstszego upakowania.
Istnieją dwie możliwości ułożenia nowej warstwy względem warstwy poprzedniej.
Trzy możliwe pozycje politypowe oznacza się A, B i C. (b) Wycinek
(350 atomów) ze struktury kryształu b)(a) Struktura najgęstszego upakowania.
Istnieją dwie możliwości ułożenia nowej warstwy względem warstwy poprzedniej.
Trzy możliwe pozycje politypowe oznacza się A, B i C. (b) Wycinek
(350 atomów) ze struktury kryształu

Figure 5.5: (a) Struktura najgęstszego upakowania. Istnieją dwie możliwości ułożenia nowej warstwy względem warstwy poprzedniej. Trzy możliwe pozycje politypowe oznacza się A, B i C. (b) Wycinek (350 atomów) ze struktury kryształu SiC typu kubicznego (bez błędów ułożenia). Monowarstwy (0001) Si-C w pozycjach A, B i C zostały wyróżnione kolorami.

W kryształach o symetrii hexagonalnej (np. SiC, GaN, diament) układane na sobie kolejno warstwy (0001) mogą przyjmować jedną z trzech pozycji względem wybranego układu współrzędnych (rys. 5.5a). Pozycje te nazywane są tradycyjnie A, B i C i określają typ monowarstwy. W hexagonalnym układzie współrzędnych (kąt między osiami X i Y wynosi 120 stopni), wektory przesunięcia płaszczyzn wynoszą:

  • A: (0,0)

  • B: (23a,13a)

  • C: (13a,23a),

gdzie a jest parametrem sieci.

W strukturze najgęstszego upakowania kolejne warstwy atomów lub cząsteczek, układane kolejno na sobie, tworzą sekwencję politypową (stacking sequence), rys. 5.5a. Najprostszą formą opisu sekwencji warstw jest podanie ciągu liter A,B lub C odpowiadających pozycjom kolejnych warstw. Notacja ta, nazywana notacją ABC, jest najogólniejsza i jednoznacznie opisuje każdą sekwencje warstw, włączając układy całkowicie nieuporządkowane.

Notacja Jagodzińskiego (notacja hc) [15][16][17] dzieli wszystkie warstwy na dwa rodzaje: hexagonalne (h) i kubiczne (c). Warstwa y jest hexagonalna jeśli obie sąsiadujące z nią warstwy są w jednakowych pozycjach: AyA, ByB lub CyC. Warstwa y jest kubiczna jeśli obie sąsiadujące z nią warstwy są w różnych pozycjach: AyC, ByA lub CyA. Notacja hc opisuje sekwencję politypową jako ciąg warstw c i h, np.:

  • ABCABCABACBACBA w notacji ABC odpowiada:

  • xcccccchccccccx w notacji hc.

  • ABABABABCBCBCBC w notacji ABC odpowiada:

  • xhhhhhhchhhhhhx w notacji hc.

W notacji hc skrajne warstwy (x) są nieokreślone z braku jednego z sąsiadów. Zaletą notacji Jagodzińskiego jest czytelny zapis obecności (lub braku) błędów ułożenia. Kryształowi czysto kubicznemu odpowiada sekwencja cccccccccc, zaś każdy błąd ułożenia pojawia się w niej jako wtrącenie litery h, np. ccccccchcc. W krysztale hexagonalnym (sekwencja hhhhhhhhhh) błąd ułożenia to wtrącenie warstwy kubicznej, np. hhhhhhhchh. W kryształach nieuporządkowanych mówi się o rozkładach długości domen hexagonalnych i kubicznych, które są reprezentowane w notacji Jagodzińskiego przez sekwencje warstw h i c.

Okres politypowy jest to najmniejsza liczba warstw potrzebna do zbudowania politypu (poprzez ich powielanie).

5.1.2.2 Błędy ułożenia

Kryształy z błędami ułożenia to takie, których okres politypowy przekracza fizyczny rozmiar kryształu [21]. Jednowymiarowa (super)struktura politypowa nie powtarza się wtedy w krysztale, a więc nie bierze udziału w konstruktywnej interferencji promieni X. W przypadku kryształów nanometrowych wielkość krystalitu jest porównywalna z okresem politypowym (np. okres politypu α-SiC 6H wynosi około 2nm). Jednocześnie łamana przez błędy ułożenia symetria kryształu silnie wpływa na zjawisko dyfrakcji. Stwierdzono również, że uporządkowanie dalekiego zasięgu, włączając politypię, zależy od wielkości ziarna (np. nanokryształy diamentu zawierają błędy ułożenia podczas gdy większe są od nich wolne).

Błędy ułożenia są natury stochastycznej, dlatego mogą być opisane przez prawdopodobieństwo ich zaistnienia. Prawdopodobieństwo błędu ułożenia można zdefiniować jako:

  • prawdopodobieństwo znalezienia warstwy h w strukturach typu sfalerytu: P(h)

  • prawdopodobieństwo znalezienia warstwy c w strukturach typu wurcytu: P(c)

Ponieważ P(c)=1-P(h), do opisu błędów ułożenia wystarczy zaangażować tylko P(h) (tak zwany parametr hexagonalności).

5.1.3 Mikrostruktura polikryształów nanometrowych

W niniejszej pracy pod pojęciem mikrostruktury proszku będziemy rozumieli:

jego morfologię

w sensie mikroskopowym, czyli cechy krystalitów rozumianych jako kawałki materii, z zaniedbaniem ich struktury atomowej, np.

  • wielkość lub rozkład wielkości krystalitów (ziaren),

  • kształt ziaren,

  • wzajemne ułożenie ziaren, np. przypadkowe lub posiadające jakieś prawidłowości, superstrukturę.

makroskopowe zaburzenia (defekty) struktury atomowej

krystalitów w stosunku do ich sieci zrelaksowanej, które wpływają na ich kształt czy orientację ziaren, np.

  • naprężenia sieci krystalicznej,

  • defekty sieci krystalicznej,

  • błędy ułożenia.

Morfologia proszku i zaburzenia struktury atomowej są ze sobą powiązane, np. w eksperymentach wysokociśnieniowych układ ziaren w proszku może implikować określone zmiany naprężeń krystalitów. I odwrotnie: wywołany naprężeniami ruch dyslokacji zmienia kształt (a czasem i rozmiar) ziaren. Nie będą dalej dyskutowane przyczyny defektów sieci krystalicznej i mechanizmy ich powstawania lecz niektóre ich skutki widoczne w postaci deformacji linii dyfrakcyjnych.

W opisie mikrostruktury używa się m.in. pojęć:

krystalit, ziarno:

pierwotny, najmniejszy element proszku. Tutaj przyjmiemy, że jest nim nanokryształ jednolity pod względem struktury atomowej.

aglomerat:

układ (zlepek) wielu ziaren. Ziarna aglomeratu przylegają do siebie na tyle ściśle, że ich powierzchnia swobodna jest mniejsza niż izolowanych ziaren. Do aglomeracji ziaren dochodzi np. w procesach zagęszczania nanoproszków. Aglomeraty ziaren nanometrowych często mają postać fraktali.

5.1.3.1 Ułożenie krystalitów w proszku

Przestrzenne ułożenie krystalitów w proszku zdeterminowane jest przez siły ich wzajemnego oddziaływania. Może to być zarówno przyciąganie elektrostatyczne jak siły Van der Waals’a czy - w przypadku gęstych ceramik (spieków) - wiązania kowalencyjne, jonowe lub inne (w zależności od rodzaju materiału). Siły wiążące ziarna proszku (siły adhezji), bez względu na ich rodzaj, działają pomiędzy atomami przypowierzchniowymi i są do wielkości tych powierzchni proporcjonalne. Z drugiej strony siły prowadzące do rozseparowania ziaren, jak udary mechaniczne, czy chociażby grawitacja, rosną z momentem bezwładności i masą ziaren, a więc z ich objętością. W tej sytuacji stabilność mechaniczna proszku podyktowana jest w dużej mierze stosunkiem sił wiążących (adhezji) do sił separujących, a więc i stosunkiem powierzchni krystalitów do ich objętości [14]:

ΔVV=[π6d3-π6(d-2δ)3](π6d3)-16δd, (5.1)

gdzie ΔV jest objętością materiału zgromadzonego nie dalej niż o δ od powierzchni ziarna w kształcie kuli o średnicy d i objętości V. ΔV można traktować jako obszar granic pomiędzy ziarnami, zaś wytrzymałość mechaniczna proszku jest proporcjonalna do ΔVV. Jak widać, wytrzymałość maleje jak 1d co stanowi podstawę do podziału proszków na dwie klasy:

  • “zwykłych”, czyli mikrometrowych, gdzie duża masa ziaren wobec słabo rozwiniętej powierzchni uniemożliwia tworzenie stabilnych struktur przestrzennych (rys. 5.6a)

  • nanometrowych, gdzie nawet 50% masy tworzy obszar granic ziaren (przy założeniu jego grubości na 3-4 warstwy atomowe i średnicy ziarna 5-15nm) i adhezja jest wystarczająco silna do utrzymania ziaren w pozycjach jakie przyjęły w trakcie syntezy proszku (rys. 5.2, 5.7).

Ułożenie przypadkowe - proszki mikrometrowe

Ten rodzaj ułożenia jest charakterystyczny dla proszków złożonych ze stosunkowo dużych ziaren (rzędu μm i więcej).

Siły adhezji działające na niewielkiej powierzchni styku ziaren są zbyt słabe aby stworzyć z dużych kryształów trwałą superstrukturę (rys. 5.6). Proszek zachowuje się w sposób podobny do sypkiego piasku lub cieczy: gęsto wypełnia objętość którą ma do dyspozycji, rys. 5.6a.

a)Mikrostruktura ziaren b)Mikrostruktura ziaren
Figure 5.6: Mikrostruktura ziaren SiC o rozmiarach mikrometrowych. (a) SiC krystalizując w czasie syntezy z pierwiastków (SHS) tworzy najczęściej układy przypadkowo pozrastanych ziaren. (b) Wyjątkowo rzadko obserwuje się inną mikrostrukturę proszku, np. sieć łańcuchów mikrokrystalicznych.

Wypełnienie objętości przez ziarna ułożone przypadkowo jest duże (do 40-60%).

Ułożenia łańcuchowe i fraktalne - proszki nanometrowe

Bardzo małe kryształy (kilka i kilkanaście nm) wykazują tendencję do tworzenia superstruktur przestrzennych w trakcie ich syntezy. Duży stosunek powierzchni (a więc sił adhezji) do masy krystalitu zapewnia znaczną stabilność takich superstruktur. Mogą one mieć postać rozgałęzionych włókien, często tworzą struktury fraktalne o znacznej rozpiętości masowych wymiarów fraktalnych Dm (od 1.5 wzwyż), rys. 5.7.

a)Przykład mikrostruktury tego samego proszku

b)Przykład mikrostruktury tego samego proszku c)Przykład mikrostruktury tego samego proszku
d)Przykład mikrostruktury tego samego proszku e)Przykład mikrostruktury tego samego proszku

Figure 5.7: Przykład mikrostruktury tego samego proszku SiC o ziarnach o średnicy ok. 10nm w różnych powiększeniach. Wyraźnie widać aglomeraty i pory o rozmiarach różniących się o rzędy wielkości (a,b,c,d,e). Układy ziaren tworzą fraktale statystyczne o wymiarze fraktalnym 1<Dm<3.

Istnieje uporządkowanie dalekiego zasięgu (tj. poza drugich sąsiadów) ziaren. Odległości międzyatomowe będące wielokrotnością średnicy ziarna są bardziej prawdopodobne niż inne. Sytuacja ta nie ma analogii dla struktury atomowej.

Ułożenie gęste - ceramika
Ceramika

jest wytrzymałym materiałem nieorganicznym i niemetalicznym. Do zastosowań praktycznych używa się materiały takie jak węglik krzemu (SiC), czyste tlenki (Al2O3), azotki (Si3N4), szkła niekrzemianowe i wiele innych. Ceramiki są twardsze i sztywniejsze od stali, bardziej odporne na wysoką temperaturę i korozję niż metale i polimery, lżejsze od wielu metali i ich stopów.

Ceramika jest granicznym stanem zagęszczenia proszku złożonego z kryształów. Idealna ceramika ma gęstość zbliżoną do gęstości materiału z którego jest zbudowana. Krystality stykają się ze swoimi sąsiadami całą swoją powierzchnią, wykorzystując do maksimum siły adhezji. Tworzą się wiązania chemiczne. Ziarna zachowują jednak odrębność własnych struktur krystalicznych, co utrudnia m.in. propagację dyslokacji pomiędzy nimi.

5.1.4 Metody doświadczalne w badaniu mikrostruktury

W pracy niniejszej korzystano z czterech metod doświadczalnych pomocnych w badaniach mikrostruktury: mikroskopii elektronowej (Scanning Electron Microscopy SEM), pomiarów powierzchni właściwej (Specific Surface SS), proszkowej dyfrakcji rentgenowskiej (X-Ray Diffraction XRD) i niskokątowego rozpraszania promieni rentgenowskich i neutronów (Small Angle Scattering SAS). Dwie pierwsze metody dostarczają wyników samowyjaśniających (fotografie, wartość powierzchni właściwej) i nie będą dokładniej omawiane. O obu zaś metodach dyfrakcyjnych trzeba powiedzieć, że są komplementarne i razem dają komplet informacji mikrostrukturalnej:

  • dyfrakcja proszkowa w zakresie wysokich kątów (tzw. części bragowskiej widma) pozwala obserwować strukturę atomową kryształów i jej zaburzenia. Warunki brzegowe dyfrakcji (dystrybucja kształtu kryształu) przejawiające się w postaci profilu linii dyfrakcyjnej pozwalają też na dokładny pomiar rozkładu wielkości krystalitów w proszku.

  • rozpraszanie niskokątowe pozwala określać przestrzenny rozkład krystalitów, ich rozmiary oraz aglomerację. Rozpraszanie to odbywa się na granicach między ziarnami a otoczeniem.

5.1.4.1 Dyfrakcja proszkowa

Rozpraszanie promieni rentgenowskich (lub neutronów22 2 Promienie X i neutrony mogą być stosowane zamiennie we wszystkich opisanych tu przypadkach. ) na proszkach złożonych z nanokryształów jest bodaj najprostszą i najbardziej efektywną metodą badań struktury atomowej i rozkładu wielkości krystalitów w tych materiałach. W badaniach tych korzysta się z dyfraktometrów proszkowych, mogących pracować w dwóch geometriach:

  • z rozdzielczością kąta (angle dispersive, ruchomy detektor przy monochromatycznej wiązce padającej)

  • z rozdzielczością energii (energy dispersive, nieruchomy detektor przy polichromatycznej wiązce padającej)

Pierwszy układ jest bardziej rozpowszechniony, gdyż laboratoryjne źródła promieni X (lampy rentgenowskie) emitują promieniowanie o określonych długościach fali, charakterystycznych dla materiału anody. Układ z rozdzielczością kąta pozwala na pomiar danych o wysokiej rozdzielczości i dużym stosunku sygnału do szumów. Stosunek ten można dodatkowo poprawić stosując synchrotronowe źródło promieni X.

a)Schemat układu pomiarowego stacji B2 (DESY)
konstrukcji CBW PAN do pomiarów proszkowych. (a) komora próżniowa
prowadzi wiązkę synchrotronową do próbki i dalej ugięte promieniowanie
do detektora bez rozproszeń na powietrzu. (b) specjalny uchwyt eliminuje
rozpraszanie na szkle kapilary dając pewność, że b)Schemat układu pomiarowego stacji B2 (DESY)
konstrukcji CBW PAN do pomiarów proszkowych. (a) komora próżniowa
prowadzi wiązkę synchrotronową do próbki i dalej ugięte promieniowanie
do detektora bez rozproszeń na powietrzu. (b) specjalny uchwyt eliminuje
rozpraszanie na szkle kapilary dając pewność, że
Figure 5.8: Schemat układu pomiarowego stacji B2 (DESY) konstrukcji CBW PAN do pomiarów proszkowych. (a) komora próżniowa prowadzi wiązkę synchrotronową do próbki i dalej ugięte promieniowanie do detektora bez rozproszeń na powietrzu. (b) specjalny uchwyt eliminuje rozpraszanie na szkle kapilary dając pewność, że 100% mierzonego natężenia pochodzi od badanego materiału.

Krzywe dyfrakcyjne nanoproszków - w porównaniu do polikryształów mikrometrowych - mają bardzo szerokie maksima, a więc relatywnie mniejsze natężenia w tych maksimach i w rezultacie - mniejszy stosunek sygnału do szumu. W związku z tym nawet niewielkie ograniczenie źródeł szumów i zakłóceń w przypadku nanoproszków zdecydowanie poprawia jakość danych. Celem zlikwidowania źródeł szumu można umieścić wiązkę padającą, próbkę oraz wiązkę rozproszoną w próżni. Zapobiega to rozpraszaniu i absorpcji w powietrzu (rys. 5.8a). Próżniowy układ dyfrakcyjny, konstrukcji CBW PAN, pracuje na linii B2 laboratorium HASYLAB synchrotronu DESY w Hamburgu. Dodatkowo posiada on specjalnie zaprojektowany uchwyt do próbek (rys. 5.8b), który eliminuje używaną zazwyczaj szklaną kapilarę i w połączeniu z układem próżniowym gwarantuje, że fotony mają kontakt wyłącznie z próbką i detektorem. Ten unikalny układ pomiarowy pozwala na obserwację słabych refleksów (normalnie ukrytych w tle) i ilościowy pomiar rozpraszania dyfuzyjnego próbki. Układ pracuje w geometrii Debye’a-Scherrer’a.

Wysokociśnieniowa komórka diamentowa. Umieszczenie
próbki pomiędzy dwoma diamentami i jej mechaniczne ściśnięcie śrubą
pozwala osiągnąć ciśnienia rzędu setek 
Figure 5.9: Wysokociśnieniowa komórka diamentowa. Umieszczenie próbki pomiędzy dwoma diamentami i jej mechaniczne ściśnięcie śrubą pozwala osiągnąć ciśnienia rzędu setek GPa. Ze względu na niewielki kąt dostępny dla promieniowania rozproszonego pożądane jest użycie białej wiązki pierwotnej i detektora z rozdzielczością energii.

Układ z rozdzielczością energii nie posiada wymienionych zalet, ale jest użyteczny w wysokociśnieniowych (i nie tylko) doświadczeniach in situ, gdzie aparatura wytwarzająca pożądane warunki eksperymentalne (np. prasa wysokociśnieniowa) szczelnie otacza próbkę i pozostawia niewielkie światło dla rozproszonego promieniowania. W geometrii z rozdzielczością energii do wykonania pomiaru wystarczy wąska szczelina w aparaturze. Ta geometria stosowana jest najczęściej na synchrotronach i źródłach neutronowych (z powodu białego promieniowania i możliwości przeniknięcia silnej wiązki przez warstwy materiału otaczającego próbkę).

Przykładem zastosowania układu z rozdzielczością energii jest wysokociśnieniowy pomiar dyfrakcyjny in situ w kowadłach diamentowych (rys. 5.9). Próbka umieszczona jest w niewielkim otworze wykonanym w blaszce (gaskecie). Dwa monokryształy diamentu, umocowane w mechanicznym zacisku (dokręcanym śrubą) wywierają nacisk na gasket i próbkę. Przez otwory w zacisku przechodzi wiązka pierwotna. Przechodzi ona przez pierwszy monokryształ diamentu (ustawiony w położeniu nieodbijającym), następnie przez próbkę i ulega tam rozproszeniu. Promieniowanie rozproszone wychodzi z układu przez drugi monokryształ i jest rejestrowane w nieruchomym detektorze, który mierzy ilość kwantów i ich energię. Otrzymany w ten sposób dyfraktogram jest funkcją natężenia od energii (a nie kąta). Ciśnienie możliwe do uzyskania w kowadłach diamentowych sięga 500GPa, jednak typowe warunki pracy nie przekroczyły w przypadku opisanych pomiarów 40GPa. Pomiaru przyłożonego ciśnienia dokonuje się poprzez obliczenie parametru sieci wzorcowej domieszki (wskaźnika ciśnienia), której dodaje się do badanego materiału, np. NaCl, Au.

5.1.4.2 Rozpraszanie niskokątowe (SAS)

Rozpraszanie niskokątowe (Small Angle Scattering, SAS) promieni rentgenowskich (Small Angle X-Ray Scattering, SAXS) lub neutronów (Small Angle Neutron Scattering, SANS) jest metodą pozwalającą badać mikrostrukturę obiektów o rozmiarach do kilkudziesięciu nm. W odróżnieniu od dyfrakcji wysokokątowej, obiektami rozpraszającymi są tu nie atomy a całe ziarna obecne w proszku. SAS nie jest więc czuły na strukturę atomową - pokazuje budowę nanomateriału, średnie relacje geometryczne pomiędzy ziarnami (na co nie jest czuła dyfrakcja wysokokątowa). Eksperymenty SAS są w istocie identyczne z doświadczeniami dyfrakcji wysokokątowej (rys. 5.10), z tą tylko różnicą, że w SAS mierzymy tylko jedną linię dyfrakcyjną (o indeksie hkl=000) i w konstruktywnej interferencji biorą udział wszystkie atomy próbki - stąd natężenia ogromne w porównaniu z maksimami bragowskimi. Specyfiką pomiaru linii (000) jest obecność w mierzonej wiązce obok promieniowania rozproszonego na próbce, także nierozproszonej wiązki pierwotnej (promieniowania przechodzącego bez oddziaływania z próbką). Obszar kątowy, w którym oba strumienie fotonów się mieszają jest bezużyteczny i zatrzymuje się go na chwytce. Ogranicza to od dołu najmniejszy osiągalny pomiarowo kąt ugięcia33 3 Problemów technicznych przy pomiarach SAS jest oczywiście więcej. Główne to rozpraszanie na powietrzu i krawędziach szczelin definiujących wiązkę.. Doświadczenia SAS są szczególnie użyteczne przy badaniach zagęszczania proszków nanokrystalicznych. Z racji opisanych ograniczeń (najlepsze stacje SAS pozwalają mierzyć natężenia ugięte pod kątami odpowiadającymi wektorowi rozpraszania nie mniejszemu od 0.001 Å-1, rys. 5.10), w praktyce można określić średnie otocznie krystalitów proszku nie dalej niż na odległość 3-4 sąsiadów.

Schemat układu pomiarowego rozpraszania niskokątowego
(
Figure 5.10: Schemat układu pomiarowego rozpraszania niskokątowego (SAXS) w HASYLAB, linia B1. Istotnym parametrem są odległości pomiędzy elementami układu: w przypadku SAS im większe tym lepiej. Stacja B1 zapewnia maksymalną odległość próbka - detektor równą 3.6m. Linia ultraniskokątowa (USAXS) tego samego synchrotronu, BW4, z odległością próbka - detektor powyżej 16m pozwala na osiągnięcie dolnych wartości wektora rozpraszania rzędu 0.001 Å-1.

5.2 Badania nanokryształów metodą ab initio

Nanokryształy o strukturze najgęstszego upakowania zawierające błędy ułożenia stanowią szczególnie trudny obiekt przy próbach charakteryzacji ich struktury atomowej i mikrostruktury metodami dyfrakcyjnymi. O ile w kryształach mikrometrowych istnienie błędów ułożenia nie jest regułą (np. nie ma ich zazwyczaj w diamencie i GaN), o tyle nanokryształy prawie zawsze zawierają znaczną ich liczbę. Problem z błędami ułożenia polega na tym, że tworzą one dodatkowe maksima natężenia położone bardzo blisko refleksów strukturalnych materiału. Dla nanokryształów, których linie dyfrakcyjne są niezwykle szerokie ze względu na rozmiar ziarna, oznacza to poszerzenie i deformację refleksów strukturalnych, co w oczywisty sposób utrudnia, a często wręcz uniemożliwia wyznaczenie ich szerokości i położeń. Trudno jest bowiem rozseparować wkłady wielkości krystalitu i błędów ułożenia w szerokość linii, nie mówiąc o ilościowej analizie jej profilu (rozkład wielkości ziaren). Próby “włączenia” błędów ułożenia do struktury i obliczania zbioru refleksów zawierających również te wynikające z jednowymiarowego nieuporządkowania były podejmowane dla kryształów mikrometrowych [50]. Jednak w przypadku nanokryształów, gdzie mamy najwyżej kilka błędów ułożenia rozłożonych losowo w krystalicie (ma on kilkanaście warstw atomów), trudno stworzyć jeden model struktury kryształu, skoro mamy do czynienia z mieszaniną ogromnej ilości kryształów, z których każdy ma inną strukturę krystaliczną, dającą (z osobna) inny obraz dyfrakcyjny.

Skoro trudno jest oddzielić w dyfraktogramie efekty pochodzące od rozmiaru i błędów ułożenia, dobrym wyjściem jest podejście odwrotne: raczej składanie niż rozdzielanie. Można bowiem obliczyć dyfraktogram ab initio tak, aby zawierał oba wspomniane komponenty i spróbować dopasować ich relacje tak, żeby osiągnąć zgodność z danymi doświadczalnymi [42].

5.2.1 Analiza danych doświadczalnych metodą obliczeń ab initio

Przy pomocy metod obliczeniowych opisanych w rozdziale 4.2, w szczególności korzystając z uśredniania jednowymiarowego nieuporządkowania z użyciem wielowarstwowej funkcji rozkładu radialnego MLRDF(R)4.2.4), można obliczyć dyfraktogram nanoproszku złożonego z krystalitów o różnych wielkościach (GSD) i jednocześnie zawierających błędy ułożenia zdefiniowane statystycznie poprzez prawdopodobieństwo ich wystąpienia.

Obliczenia dokonywane są przez program rpnano44 4 Pakiet rpnano dostępny jest pod adresem http://dev.pielaszek.net/public/nar/. Problemy i pytania prosimy zgłaszać pod adresem support@science24.com., będący implementacją algorytmów opisanych w rozdziale 4.2. Stosowany rozkład wielkości ziaren jest log-normalny (por. paragraf 4.2.3) i posiada dwa parametry: położenie maksimum Rmax i dyspersję σln. Trzecią zmienną jest parametr hexagonalności, P(h), będący prawdopodobieństwem znalezienia warstwy typu h w krysztale (por. 4.2.4). Po ustaleniu wartości powyższych trzech parametrów55 5 Niekiedy konieczne jest dodatkowo podanie wartości czynnika temperaturowego B. obliczany jest metodą ab initio dyfraktogram proszkowy badanego materiału. Trwa to od jednej do dwóch sekund. Opisany pojedynczy cykl obliczeniowy zamknięty jest w pętli kontrolowanej przez algorytm genetyczny.

5.2.1.1 Algorytm genetyczny

Zadaniem algorytmu genetycznego [47] używanego do sterowania przebiegiem obliczeń ab initio jest takie manipulowanie wartościami parametrów Rmax, σln i P(h), żeby osiągnąć jak najlepszą zgodność obliczanych na ich podstawie dyfraktogramów z charakteryzowanymi krzywymi doświadczalnymi. Algorytm genetyczny buduje populację 20 osobników (trójek parametrów Rmax, σln i P(h)), oblicza ab initio 20 odpowiadających im dyfraktogramów i wylicza dopasowania obliczonych modeli do danych doświadczalnych. Następnie z całej populacji wybiera się osobniki najlepiej dopasowane (trójki Rmax, σln i P(h) najwierniej odwzorowujące dane doświadczalne) i krzyżuje się je ze sobą. Krzyżowanie polega na częściowej wymianie “informacji genetycznej” (np. dwa osobniki wymieniają się między sobą wartościami parametru Rmax). Następuje też mutacja, polegająca na losowej zmianie wartości losowo wybranych parametrów. Jednak prawdopodobieństwo mutacji jest małe (0.1) zaś krzyżowania duże (1). Tak utworzone nowe pokolenie przechodzi tą samą procedurę co ich rodzice (wylicza się funkcje dopasowania, dokonuje selekcji, krzyżuje, mutuje, itd.).

W każdym nowym pokoleniu część osobników na krzyżowaniu i mutacjach zyskuje, a część traci. Osobniki lepiej dostosowane przetrwają kolejną selekcję i przeniosą dobrze pasujące wartości Rmax, σln i P(h) do kolejnego cyklu, zaś chybione trójki Rmax, σln i P(h) znikną bezpotomnie. Stagnacji procesu przeciwdziałają mutacje, które wprowadzają do układu “nowe pomysły” na Rmax, σln i P(h). Dzięki temu algorytm genetyczny jest dość stabilny i nie zatrzymuje się zazwyczaj na lokalnych maksimach dopasowania, nawet przy trudnych problemach optymalizacyjnych, a do takich należy ustalanie wartości trzech silnie skorelowanych parametrów Rmax, σln i P(h).

Przykłady charakteryzacji proszków nanokrystalicznych przy pomocy opisanej metody pokazano na rys. 5.11 i 5.12. Obie krzywe dyfrakcyjne zmierzone zostały na wysokorozdzielczym dyfraktometrze proszkowym linii B2 synchrotronu DESY z użyciem komory próżniowej (por. 5.1.4.1). Krzywa z rys. 5.11a to dyfraktogram nanokrystalicznego SiC otrzymanego metodą pirolizy związków krzemoorganicznych i izotermicznego wygrzewania materiału amorficznego, krzywa z rys. 5.12 to nanometrowy SiC syntezowany w płomieniu, por. 5.1.1.1.

5.2.2 Wyniki

Pierwsza z analizowanych próbek SiC była syntezowana w dwustopniowym procesie. W pierwszym kroku dokonuje się termicznego rozkładu związków krzemoorganicznych w temperaturze 800°C uzyskując materiał amorficzny. Następnie przez kontrolowane wygrzewanie (1400°C w czasie 1h) doprowadza się do nukleacji i wzrostu nanokryształów SiC. Zgodnie z oczekiwaniami rozkład wielkości ziaren takiego materiału jest stosunkowo wąski (patrz rys. 5.11c). Materiał zawiera 30% błędów ułożenia warstw. Funkcja korelacji warstw (rys. 5.11b) pokazuje, że porządek struktury 3C materiału jest zachowany na odcinku (średnio) jedynie 3 warstw. W odległości pięciu warstw od dowolnej warstwy odniesienia krystalitu, znika wszelka korelacja z typem warstw poprzedzających. Oznacza to, że możemy z jednakowym prawdopodobieństwem spotkać tam warstwę w pozycji A,B lub C, niezależnie od tego, w jakiej pozycji była warstwa odniesienia. Jest to przypadek bardzo silnego nieuporządkowania struktury najgęstszego upakowania.

Druga z analizowanych próbek SiC była syntezowana przez spalanie silanu w metanie. Rozkład wielkości ziaren otrzymany dla tej próbki jest dwumodowy. Proszek jest mieszaniną dwóch frakcji o rozmiarach ziaren ok. 55 i 140Å. Frakcja mniejszych krystalitów posiada stosunkowo szeroki rozkład wielkości, zaś krystality większe mają lepiej zdefiniowany rozmiar. Żadna z tradycyjnych metod dyfrakcyjnych nie dostarcza informacji na temat wielomodowych rozkładów wielkości ziaren. W materiale istnieje 20% warstw hexagonalnych (błędów ułożenia). Jest to niewielka różnica w stosunku do próbki pierwszej, jednak porównanie funkcji korelacji warstw obu materiałów (rys. 5.11b i 5.12b) pokazuje, że korelacje pomiędzy pozycjami kolejnych warstw są znacznie silniejsze i zanikając całkowicie dopiero po ok. 10-ciu warstwach. Rozkład wielkości ziaren ma większą szerokość niż poprzedni, co wiąże się z obecnością dwóch frakcji ziaren o różnych rozmiarach.

a)Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego

b)Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego
c) Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego

Figure 5.11: Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego SiC. (a) dopasowanie krzywej obliczonej ab initio przy pomocy algorytmów genetycznych (czarna ciągła linia) danych doświadczalnych (czerwone kwadraty); (b) funkcja korelacji warstw pokazuje, że uporządkowanie znika już przy 5-tej warstwie; parametr hexagonalności wynosi P(h)=0.3; (c) rozkład wielkości ziaren (jednomodowy) o maksimum w Rmax=27Å, σln=0.4.

a)Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego

b)Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego
c) Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego

Figure 5.12: Charakteryzacja próbki nanokrystalicznego SiC. (a) dopasowanie krzywej obliczonej ab initio przy pomocy algorytmów genetycznych (czarna ciągła linia) danych doświadczalnych (czerwone kwadraty); (b) funkcja korelacji warstw pokazuje, że uporządkowanie znika przy 10-tej warstwie; parametr hexagonalności wynosi P(h)=0.2; (c) rozkład wielkości ziaren o dwóch maksimach w Rmax=55Å, σln=0.6 (55%) i Rmax=137Å, σln=0.1 (45%).

5.2.3 Wnioski

Ilościowe wyznaczenie rozkładu wielkości ziaren proszku nanokrystalicznego jest możliwe nawet w obecności bardzo licznych (30%) błędów ułożenia, pod warunkiem zastosowania silnego narzędzia, jakim są obliczenia dyfrakcji przy wykorzystaniu praw pierwszych (ab initio). Na uwagę zasługuje fakt, iż precyzja oznaczenia rozmiaru krystalitów rośnie wraz ze zmniejszaniem ziarna. Dla materiałów o kryształach mniejszych niż 5nm precyzja ta sięga 2-3Å, czyli grubości pojedynczej warstwy atomowej. Właśnie z taką precyzją została wyznaczona wielkość krystalitu w próbce SiC otrzymanej z pirolizy związków krzemoorganicznych.

Jak widać z rys. 5.11a i 5.12a, dopasowaniu podlega nie pojedyncza linia dyfrakcyjna a cały dyfraktogram, ponieważ przedstawiony w rozdziale 4.2 formalizm Debye’a w ogóle nie wprowadza pojęć takich jak układ płaszczyzn czy linia dyfrakcyjna (w obliczeniach ab initio operuje się na obiektach takich jak atom, ziarno i proszek). W tej teorii dyfrakcja odbywa się w całej przestrzeni odwrotnej, a nie tylko w węzłach jej sieci jak w przypadku bragowskim.

Takie uogólnienie oprócz oczywistych zalet (bez niego ilościowe dyfrakcyjne badania nanokryształów w ogóle nie byłyby możliwe) ma też wady w postaci znacznej komplikacji obliczeń dyfrakcyjnych i ich dużych kosztów numerycznych. Oprogramowanie powstałe przy okazji tej pracy w praktyce usuwa obie te niedogodności.

Niejako “przy okazji” rozkładu wielkości ziaren otrzymuje się z dopasowania krzywych obliczanych ab initio także statystyczną charakterystykę nieporządku w nanokryształach. Zastosowany model struktury z błędami ułożenia nie narzuca żadnych ograniczeń na miejsca, gdzie błędy pojawiają się w strukturze. Oznacza to brak podziału kryształu na domeny kubiczne i hexagonalne. Jedyną i - jak widać z dopasowań - wystarczającą definicją nieporządku jest prawdopodobieństwo pojawienia się błędu w strukturze. Dla struktur o niewielkiej zawartości błędów ułożenia, powiedzmy do 5%, model domenowy i statystyczny są sobie równoważne, ponieważ sporadycznie pojawiające się warstwy h w naturalny sposób dzielą kubiczny kryształ na domeny. Jednak dla dużych koncentracji warstw typu h, a z takimi mamy do czynienia w SiC, sukces modelu statystycznego w poprawnym opisie obserwowanej dyfrakcji oznacza brak tendencji warstw h do grupowania się. Można powiedzieć, że jest to strukturalna właściwość SiC wynikająca z nanometrowego rozmiaru kryształów, gdyż w mikronowych polikryształach SiC istnieją duże domeny typu c wolne od błędów ułożenia oddzielone obszarami silnie nieuporządkowanymi (zawierającymi mieszaninę warstw c i h) [50].

Podobnie jak w SiC, błędy ułożenia rozsiane są przypadkowo na całej długości nanokryształów GaN jak również nanokryształów diamentu otrzymywanych z przemiany fazowej grafitu podczas eksplozji (por. §5.1.1.2).

5.3 Wpływ metody syntezy na mikrostrukturę nanokryształów

Rozkład wielkości ziaren (Grain Size Distribution GSD) stanowi odcisk, ślad po zakończonym procesie syntezy nanokryształów. Analiza procesów termodynamicznych towarzyszących ich wzrostowi wykracza poza ramy niniejszej pracy. Zaprezentowane zostaną jednak fakty doświadczalne świadczące o tym, że względna szerokość GSD jest wartością stałą dla materiałów otrzymanych jedną metodą. Ponadto zostanie oszacowany przedział dyspersji GSD otrzymywanych w czterech rodzajach procesów syntezy (od syntezy izotermicznej po eksplozję materiału wybuchowego).

5.3.1 Wyznaczanie GSD metodą FW15/45M

Do wyznaczenia rozkładu wielkości ziaren nanoproszków SiC i diamentu użyto opisanej w §2.3.2 metody FW15/45M. Dla zwiększenia dokładności oznaczeń, do refleksów bragowskich dopasowano funkcję Pearson VII. Do wyznaczenia rozkładu wielkości ziaren wzięto szerokości FW15M i FW45M dopasowanej funkcji Pearson VII, zgodnie z opisem umieszczonym w §2.3.5.1. W przypadkach linii dyfrakcyjnych zniekształconych przez lokalne maksima pochodzące od błędów ułożenia, wykonano dopasowanie części linii obejmującej kilka punktów pomiarowych wokół maksimum oraz jedno z ramion wolne od zniekształceń.

Ze względu na wymagania jakościowe, do oznaczania dyspersji GSD użyto tylko niektórych zestawów danych SiC i diamentu, najczęściej otrzymanych z pomiarów na wysokorozdzielczym dyfraktometrze proszkowym linii B2 synchrotronu DESY w warunkach próżni (paragraf 5.1.4.1). Badane materiały były otrzymywane na trzy sposoby (por. §5.1.1.1 i §5.1.1.2):

  • Piroliza związków krzemoorganicznych a następnie izotermiczne wygrzewanie produktów rozkładu (amorficznego SiC) w temperaturze 1200-1800K i ciśnieniu atmosferycznym. Próbki SiC: 157k, ew3k, h1k [25].

  • Synteza płomieniowa w ciśnieniu atmosferycznym. Próbki SiC: k1, k1c, k1v, k2, k6v, k8 [20].

  • Eksplozja w temperaturze ok. 3000K i ciśnieniu 12GPa. Próbki diamentu: dalan, kl5, kl30 [proszki diamentowe dostępne komercyjnie].

Po dopasowaniu funkcji Pearson VII do najsilniejszych linii dyfrakcyjnych (rys. 5.13), otrzymane parametry a2 i a3 tej krzywej (tabela 5.2) podstawiono do wzorów opisanych w §2.3.5.1 otrzymując średni rozmiar krystalitu w proszku R i dyspersję rozkładu wielkości ziaren σ (tabela 5.2). Można do tego celu użyć m.in. narzędzia internetowego http://science24.com/fw145m/, rys 2.11. Z podzielenia tych wielkości otrzymano wartość “monodyspersyjności”, wielkości charakteryzującej względną szerokość GSD.

Przykłady dopasowania funkcji Pearson VII
do linii Przykłady dopasowania funkcji Pearson VII
do linii Przykłady dopasowania funkcji Pearson VII
do linii
Figure 5.13: Przykłady dopasowania funkcji Pearson VII do linii (022), (113) i (002) SiC otrzymanych z tego samego pomiaru. Odpowiednie dyspersje rozkładu wielkości ziaren wyznaczone z tych linii wynoszą: σ(002)=230Å, σ(113)=207Å i σ(002)=121Å. Linia (002) jest około siedmiokrotnie słabsza od linii (022) i (113), co odbija się na jej statystyce i uniemożliwia prawidłowe wyznaczenie dyspersji rozkładu wielkości ziaren.

5.3.2 Względna szerokość GSD a metoda syntezy

Stwierdzono, że stosunek wyznaczonej doświadczalnie dyspersji σ do wartości średniej R rozkładu wielkości ziaren jest w przybliżeniu stały i charakterystyczny dla miejsca syntezy materiału. Prawidłowość ta pozostaje prawdziwa nawet dla proszków znacznie różniących się średnim rozmiarem ziarna (tabela 5.2).

Próbka hkl q a2 a3 R σ Rσ
SiC k6v 022 4.08 0.0319672 0.7295257 141.9 119.7 1.18
SiC k6v 113 4.78 0.0333162 0.7295257 134.2 115.5 1.16
SiC k6v 222 4.99 0.0333162 0.7176996 109.9 94.4 1.16
SiC k8 022 4.10 0.0164973 0.7443229 279.2 230.5 1.21
SiC k8 044 8.18 0.0185272 0.75501 251.2 204.3 1.23
SiC k8 113 4.79 0.0181521 0.7737516 260.7 206.8 1.26
SiC 157k 022 4.10 0.2026393 1.1512892 27.8 15.7 1.77
SiC 157k 113 4.78 0.2138783 1.1921648 26.6 14.6 1.82
SiC ew3k 022 4.10 0.2476773 1.3118399 23.5 12.1 1.95
Table 5.2: Przykłady wyników dopasowań krzywej Pearson VII (parametry a2 i a3) do najsilniejszych linii dyfrakcyjnych (o indeksie hkl i położeniu q) próbek SiC otrzymywanych dwoma metodami: w płomieniu (k6v, k8) oraz z pirolizy materiałów krzemoorganicznych w kontrolowanej temperaturze (157k, ew3k). Wielkość Rσ jest charakterystyczna dla metody otrzymywania materiału.

Po przeanalizowaniu wszystkich posiadanych materiałów istotnie dało się je pogrupować według właściwej im względnej szerokości rozkładu wielkości ziarna, rys. 5.14. Z rys. 5.14 widać, że zależnie od genezy proszków nanokrystalicznych, ich względne dyspersje różnią się nawet dwa razy: diament otrzymywany z eksplozji (II) ma rozkład wielkości krystalitów przeszło dwukrotnie szerszy niż SiC (V) posiadający ziarna podobnej wielkości, lecz otrzymywany z izotermicznego wygrzewania materiału amorficznego (por. §5.1.1.1 i §5.1.1.2). Węglik krzemu syntezowany w płomieniu posiada wartość Rσ lokującą się pomiędzy tamtymi dwoma.

Zaobserwowano następujące ogólne prawidłowości:

  • proszki otrzymywane przez wzrost z fazy gazowej (synteza z węgla uwalnianego z materiału wybuchowego, płomień silanu) mają szersze rozkłady wielkości ziaren niż materiał syntezowany w ciele stałym (piroliza krzemoorganików, synteza diamentu z grafitu). Wiąże się to prawdopodobnie transportem masy w trakcie syntezy.

  • proszki otrzymywane w warunkach dużego gradientu temperatur, w silnie egzotermicznych, gwałtownych procesach w ośrodku o małej przewodności cieplnej (przemiana fazowa grafitu otaczającego jądro wybuchu, płomień silanu) mają szersze rozkłady wielkości ziaren niż materiał syntezowany w mniejszych gradientach temperatury i ośrodkach lepiej przewodzących ciepło. Wiąże się to prawdopodobnie transportem ciepła w trakcie syntezy.

Zależność
Figure 5.14: Zależność Rσ rozkładu wielkości ziaren od mechanizmu syntezy nanokryształów. Różne próbki tego samego pochodzenia, nawet o ziarnach bardzo różniących się wielkością (tutaj: od 25 do 270Å), wykazują zawsze podobny stosunek Rσ. (I, III)-diament otrzymywany z przemiany fazowej grafitu w warunkach eksplozji, (II)-diament otrzymywany węgla zawartego w dynamicie w czasie jego eksplozji, (V)-SiC otrzymywany metodą izotermicznej pirolizy związków krzemoorganicznych, (VI)-SiC otrzymywany w płomieniu silanu w metanie. (IV)-symulowane dane SiC pokazano dla oszacowania niepewności pomiaru Rσ.

Można powiedzieć, że najwęższe rozkłady wielkości ziaren osiąga się w kwazistatycznych procesach wzrostu w ciele stałym (np. podczas długotrwałego wygrzewania materiału amorficznego w piecu o stałej temperaturze), zaś najszersze w syntezach gazowych przy dużym gradiencie temperatury.

5.3.3 Wnioski

Z doświadczalnych pomiarów szerokości rozkładu wielkości ziaren proszków otrzymywanych różnymi technikami wynika, że procesy transportu masy i ciepła w trakcie syntezy proszków nanokrystalicznych mają silny wpływ na rozrzut ich wielkości.

Spośród proszków otrzymywanych czterema technikami, najmniejszą względną szerokość GSD zapewniła synteza SiC w warunkach kwazistatycznych (grupa V, stała temperatura), rys. 5.14. Jest to proces prowadzony w amorficznym ciele stałym w warunkach izotermicznych, co zapewnia jednolite warunki wzrostu w całej objętości substratu. Uzyskaną względną szerokość rozkładu (dyspersja około dwukrotnie mniejsza od średniego rozmiaru ziarna) można więc traktować jako najmniejszą możliwą do uzyskania. Jest to minimum wynikające z samej termodynamiki procesu wzrostu (która nie jest tutaj dyskutowana) i wiele węższych rozkładów w tym mechanizmie wzrostu uzyskać się nie da.

Najszersze GSD otrzymano dla proszków diamentu syntezowanych z węgla uwalnianego z materiału wybuchowego w czasie jego eksplozji (grupa II). Są one około dwukrotnie szersze niż poprzednie (dyspersja porównywalna lub nieco mniejsza od średniego rozmiaru ziarna). Możliwość powstawania proszków o jeszcze szerszych GSD jest prawdopodobnie fizycznie ograniczona przez szybkość transportu ciepła i masy w gorącym gazie powstałym wskutek wybuchu. Ponieważ warunki w jądrze eksplozji są już ekstremalne (p12GPa, T3000K) nie należy się spodziewać dyspersji wiele większych niż wartość średniego rozmiaru ziarna.

Te dwa wnioski pokazują, że zakres dyspersji rozkładu wielkości ziaren możliwych do otrzymania w procesach wzrostu z fazy amorficznej jest skończony i jego oszacowanie można podać jako:

σ (0.5R÷1.25R) (5.2)
Rσ (0.8÷2)

Jeszcze raz spójrzmy na zależność stałej Scherrer’a K od “monodyspersyjności” rozkładu wielkości ziaren (rys. 3.17). Przewidywane dla syntetyzowanych wszystkimi metodami wartości Rσ od 0.8 do 2 odpowiadają zakresowi silnej zmienności K. Oznacza to, że duży błąd wyznaczanego z równania Scherrer’a rozmiaru ziarna w opisanym przypadku dotyczył wszystkich badanych nanoproszków. Ta sama uwaga odnosi się do wyników uzyskiwanych metodą Warren’a-Averbach’a (rys. 3.20): dyspersja rozmiarów ziaren w rzeczywistych proszkach jest zbyt duża, aby wyniki te mogły być dokładne.

5.4 Niskokątowe pomiary mikrostruktury nanoproszków

Ze względu na rozbudowaną powierzchnię małych ziaren i duże siły adhezji wiążące ziarna w trwałe struktury, nanoproszki nie są mieszaniną oddzielnych krystalitów, lecz podczas syntezy poszczególne ziarna łączą się w rozgałęzione łańcuchy, które luźno wypełniają przestrzeń, tworząc struktury fraktalne. Skłonność nanokryształów do tworzenia fraktali masowych jest funkcją ich rozmiaru: w proszkach o ziarnie poniżej 10nm takie zachowanie jest regułą. Wzrost fraktala odbywa się we wszystkich kierunkach: do zarodka dołączają nowo zsyntetyzowane krystality i tworzące się w ten sposób ziarno fraktalne może osiągać makroskopowe rozmiary, jak na rys. 5.15. Gęstość ziarna fraktalnego nie jest stała i maleje wraz z odległością od jego środka (zarodka):

ρ(r)=m(r)V(r)rDMr3=rDM-3, (5.3)

gdzie DM jest masowym wymiarem fraktalnym zawsze mniejszym od 3. Ponieważ najczęściej DM1÷2, proszki nanokrystaliczne są niekiedy bardzo lekkie (kilkanaście gramów wypełnia objętość 1dm3). Dzięki związkowi (5.3) gęstości ziaren fraktalnych z wymiarem DM, rozpraszanie niskokątowe promieni rentgenowskich (Small Angle X-Ray Scattering, SAXS), które odbywa się na zmianach gęstości elektronowej, umożliwia wyznaczanie wymiaru DM. Chociaż fraktalne ziarna nanokrystalicznych SiC i diamentu są dość odporne mechanicznie, przyłożenie dużego nacisku podczas zagęszczania proszku łamie gałęzie fraktala i zmienia mikrostrukturę proszku.

W tym rozdziale przedyskutowany zostanie wpływ ciśnienia na mikrostrukturę nanoproszków SiC i diamentu zbadany przy pomocy rozpraszania niskokątowego.

Ziarna fraktalne mogą być bardzo duże
chociaż składają się z nanokryształów. Zachowują własności właściwe
dla skali nano pomimo, że widać je gołym okiem (to na zdjęciu ma ok. 
Figure 5.15: Ziarna fraktalne mogą być bardzo duże chociaż składają się z nanokryształów. Zachowują własności właściwe dla skali nano pomimo, że widać je gołym okiem (to na zdjęciu ma ok. 0.01mm średnicy, czyli tyle co punkt drukarki atramentowej). Gęstość ziarna fraktalnego nie jest stała, lecz maleje z odległością od jego środka jak rDM-3. Taka struktura jest dość odporna mechanicznie - załamuje się dopiero w ciśnieniu kilku tysięcy atmosfer. Na zdjęciu nanokrystaliczny SiC (#k1).

5.4.1 Materiał, eksperyment i analiza danych

Do pomiarów rentgenowskiego rozpraszania niskokątowego (SAXS) i ultraniskokątowego (USAXS) użyto sześciu zestawów próbek nanokrystalicznych SiC(4) i diamentu(2). Każdy z 6-ciu zestawów składał się z sześciu próbek tego samego materiału zagęszczonych w prasie izostatycznej w ciśnieniach 0.03, 0.13, 0.22, 0.64, 0.96 i 6.3GPa. Pierwszych pięć ciśnień otrzymano w prasie ręcznej, najwyższe - w prasie hydraulicznej. Pomiary przeprowadzono na dwóch liniach synchrotronu DESY w Hamburgu. Na linii B1 (rozpraszanie niskokątowe, por. §5.1.4.2) zmierzono krzywe SAS w zakresie q0.03÷1Å-1. Linia ultraniskokątowa BW4 umożliwiła rozszerzenie zakresu mierzonego rozpraszania na q0.001÷0.03Å-1. Na obu stacjach badawczych zainstalowane są dwuwymiarowe detektory drutowe o rozdzielczości 512×512 punktów i układ do prowadzenia wiązki rozproszonej w próżni. Otrzymany z detektora dwuwymiarowy profil niskokątowy (rys. 5.16) został zintegrowany do jednowymiarowej krzywej.

a)Profile rozpraszania niskokątowego
(a) luźnego nanokrystalicznego proszku b)Profile rozpraszania niskokątowego
(a) luźnego nanokrystalicznego proszku
Figure 5.16: Profile rozpraszania niskokątowego (a) luźnego nanokrystalicznego proszku SiC (b) gęstego, wysokociśnieniowego spieku SiC.

5.4.1.1 Wyznaczanie średniego rozmiaru kryształów

Średnią wielkość drobin (krystalitów) określa się z profilu niskokątowego używając przybliżenia Guinier [13, str.126]:

log10I(q)=-q2R23log10e+const, (5.4)

gdzie I(q) jest analizowaną krzywą niskokątową. Po wykreśleniu jej jako logarytmu dziesiętnego natężenia w funkcji kwadratu wektora rozpraszania (tzw. krzywa Guinier, rys. 5.17b), średni rozmiar drobin otrzymujemy ze związku:

R=3log10epG2.628pG, (5.5)

gdzie pG jest zmierzonym nachyleniem krzywej Guinier w pobliżu wartości wektora rozpraszania spełniających warunek qR2π, rys. 5.17a. Obszar q2πR jest łatwy do rozpoznania na krzywej SAS wykreślonej w skali log-log, gdyż ogranicza od lewej zakres q, gdzie spełnione jest prawo Porod’a (I(q)q-4), por. §3.4.3. Na rys. 5.17a obszar ten zaznaczono elipsą.

a)Wyznaczanie rozmiaru b)Wyznaczanie rozmiaru
Figure 5.17: Wyznaczanie rozmiaru R krystalitów z SAS metodą Guinier. (b) Krzywą SAS wykreśla się w skali logI(q2) i bada nachylenie odcinka odpowiadającego wartościom q2πR. (a) Rejon krzywej SAS, gdzie q2πR można poznać po załamaniu widocznym w skali log-log (por. § 3.4.3).

5.4.1.2 Charakteryzacja aglomeratów i struktury fraktalnej proszku

Szczególną cechą rozpraszania niskokątowego jest - obok pomiarów wielkości ziaren - możliwość badania obiektów większych niż rozmiar ziarna proszku (lewa część krzywej z rys. 5.17a). Obiekty te to układy ziaren pozostające w pewnych geometrycznych relacjach względem siebie. Spodziewane relacje to:

  1. 1.

    Brak jakichkolwiek relacji. Luźny proszek z niepowiązanymi, stosunkowo odległymi od siebie ziarnami, najlepiej zawiesina drobin w cieczy. Krzywa SAS takiego układu dla q2πR powinna mieć stałe nachylenie p=0.

  2. 2.

    Aglomeraty ziaren. Część ziaren związana w “super ziarna” o wielokrotnie większym rozmiarze niż ziarna pierwotne (krystality). Krzywa SAS powinna składać się z segmentów o nachyleniu właściwym dla GSD każdego “podproszku”, występujących w obszarze q właściwym dla średniego rozmiaru ziarna (lub aglomeratu) każdego “podproszku”.

  3. 3.

    Fraktale masowe. Rozgałęzione aglomeraty ziaren mogące osiągać rozmiary porównywalne z objętością próbki (rys. 5.15). Rozpraszają jak pojedyncze ziarna ale o zmiennej gęstości. Gęstość fraktala masowego o wymiarze DM jest funkcją odległości od jego centrum: ρ(r)=m(r)V(r)rDMr3=rDM-3. Rozpraszanie na takich strukturach daje, według [48], nachylenia krzywej niskokątowej p=-DM.

Krzywa niskokątowa posiada typowo trzy rejony niosące trzy różne informacje:

  • część wysokokątową o - zazwyczaj - stałym nachyleniu właściwym dla formy rozkładu wielkości ziaren proszku (por. §3.5.7),

  • zagięcie (zakreślone elipsą na rys. 5.17a), którego wykreślenie w postaci krzywej Guinier (rys. 5.17b) pozwala na wyznaczenie średniego rozmiaru ziarna w proszku,

  • część ultraniskokątową, której nachylenie pozwala określić masowy wymiar fraktalny struktury tworzonej przez ziarna proszku i/lub aglomerację ziaren.

5.4.2 Wyniki

Wyniki pomiaru nachyleń pierwszej części krzywej SAS (rozkład wielkości ziaren) podano w tabeli 5.3. Badane przez nas nanometrowe proszki SiC i diamentu niezależnie od ciśnienia, w którym zagęszczano próbkę wykazują zawsze podobne nachylenie bliskie p=-4. Świadczy to o niezmienności postaci rozkładu wielkości krystalitów w ciśnieniu, co jest wynikiem oczekiwanym.

-p
Próbka \ Ciśnienie 0.03GPa 0.22GPa 0.64GPa 0.96GPa 6.3GPa
SiC 157k 4.09 4.12 4.17 4.13 3.94
SiC ew3k 3.97 3.91 3.95 3.93 3.83
SiC k9 4.00 4.11 4.15 3.84 4.06
SiC 493-158-3 4.02 4.04 3.93 3.94 3.87
diament a16 4.04 4.05 4.00 4.02 3.93
diament atm 3.93 3.92 3.86 3.92 3.94
Table 5.3: Nachylenie -p wysokokątowej części krzywej SAS dla szeregu próbek SiC i diamentu zagęszczanych w pięciu różnych ciśnieniach. Nachylenie jest z reguły bliskie p=-4 i nie widać jego systematycznej zależności od ciśnienia.

Wyniki pomiaru średniego rozmiaru ziarna metodą Guinier (zagięcie krzywej SAS) dla wszystkich badanych próbek zestawiono w tabeli 5.4.

Próbka -pG RSAS RBragg
SiC 157k 146.12 32Å 27Å
SiC ew3k 141.69 31Å 24Å
SiC k9 1819.7 112Å -
SiC 493-158-3 1701.1 108Å -
diament a16 135.9 31Å -
diament atm 123.71 29Å -
Table 5.4: Wyniki pomiarów średniego rozmiaru ziarna metodą Guinier. Pokazano zmierzone nachylenie krzywej Guinier -pG oraz odpowiadający temu nachyleniu rozmiar RSAS. Dla porównania podano średni rozmiar krystalitu wyznaczony z profilu linii bragowskich (§5.3) RBragg. Istnieje dobra zgodność rozmiarów mierzonych obiema technikami, z systematyczną odchyłką w górę w przypadku danych SAS.

W przypadku dwóch próbek (157k i ew3k), których mikrostrukturę badano niezależnie na podstawie profilu linii bragowskich w §5.3, podano odpowiednie wartości średniego rozmiaru krystalitów RBragg. Istnieje systematyczna zależność między rozmiarami wyznaczonymi z maksimów niskokątowych i bragowskich: pierwsze z nich są zawsze nieco większe.

Nachylenie części ultraniskokątowej krzywej SAS informuje m.in. o wymiarze fraktalnym struktury tworzonej przez ziarna proszku. Nachylenia tej części SAS w zależności od ciśnienia użytego podczas przygotowania próbek podano w tabeli 5.5. Pięć na sześć badanych próbek posiadało fraktalną strukturę ziaren o wymiarze DM pomiędzy 1 i 2. Jedynie proszek o największych ziarnach (k9, R112Å) ma wymiar DM mniejszy od jedności, co oznacza krótkie, jednowymiarowe ciągi pozlepianych ziaren. Widać wyraźną zależność wymiaru fraktalnego od ciśnienia przyłożonego podczas formowania próbek.

-p DM
Próbka \ Ciśnienie 0.03GPa 0.22GPa 0.64GPa 0.96GPa 6.3GPa -
SiC 157k 1.85 1.81 1.25 2.97 3.28 1.85
SiC ew3k 1.84 1.55 0.67 0.49 3.30 1.84
SiC k9 0.77 0.78 0.03 0.08 0.00 0.77
SiC 493-158-3 1.03 1.19 0.16 0.09 0.00 1.03
diament a16 2.03 2.02 1.11 1.03 2.40 2.03
diament atm 2.00 1.96 1.16 1.88 2.35 2.00
Table 5.5: Nachylenie -p ultraniskokątowej części krzywej SAS w zależności od ciśnienia, w którym zagęszczano nanokrystaliczne proszki SiC i diamentu. Nachylenie w najmniejszym ciśnieniu odpowiada masowemu wymiarowi fraktalnemu proszku DM. Spadek nachyleń w ciśnieniu 0.64GPa świadczy o załamywaniu się struktur fraktalnych (wszystkie próbki). Ponowny wzrost nachylenia w ciśnieniu 6.3GPa (próbki 157k, ew3k, a16 i atm) jest spowodowany tworzeniem się aglomeratów ziaren.

a)Fraktalna (

b)Fraktalna ( c) Fraktalna (

Figure 5.18: Fraktalna (DM=1.85) struktura nanokryształów SiC na zdjęciu SEM (a) oraz jako część krzywej niskokątowej (b) o stałym, ułamkowym nachyleniu p=-DM=1.85. Po przyłożeniu nacisku fraktal zaczyna się łamać i tworzą się aglomeraty ziaren o wielkości rzędu setek nm. (c) Inny proszek SiC ewoluuje w ciśnieniu od struktury fraktalnej (p=-1) do struktury luźnych ziaren (p=0). Można też zauważyć w 6.3GPa niewielkie maksimum interferencyjne, które świadczy o tendencji do periodycznego układania się uwolnionych krystalitów.

5.4.3 Dyskusja wyników i wnioski

5.4.3.1 Pomiar rozmiaru ziarna i zanieczyszczeń powierzchni

Porównanie wartości średniego rozmiaru ziarna zmierzonego w dwóch eksperymentach: (i) dyfrakcji bragowskiej i (ii) rozpraszania niskokątowego przeprowadzonych dla tego samego proszku może dostarczyć informacji na temat substancji zaadsorbowanych na powierzchni nanokryształów. Jest to możliwe, gdyż oba doświadczenia wyznaczają rozmiar ziarna bazując na nieco innych mechanizmach fizycznych:

  • Wielkość ziarna wyznaczana z profilu linii bragowskich ma znaczenie rozmiaru koherentnie rozpraszającej struktury krystalicznej. Wkłady rozproszeń pochodzące od atomów związanych na powierzchni nanokryształu ale nie znajdujących w węzłach jego sieci krystalicznej znoszą się wzajemnie nie uczestnicząc w konstruktywnej interferencji. Nie stanowią one składnika bragowskich maksimów interferencyjnych, dlatego pomiar szerokości tych maksimów mówi o rozmiarze nanokryształu “netto”, bez otoczki obcych molekuł związanych na jego powierzchni.

  • Rozpraszanie niskokątowe odbywa się na różnicach gęstości elektronowej, w proszkach - na granicach ziaren66 6 Oczywiście w rzeczywistości promieniowanie podlega jednakowym prawom niezależnie od kąta i zawsze rozprasza się na elektronach w całej objętości próbki. Uzasadnienie uproszczenia można znaleźć w równaniu Debye’a: małe odległości międzyatomowe R (wewnątrz jednego ziarna) wnoszą w obraz dyfrakcyjny wolnozmienne w obszarze niskokątowym składowe sinqRqR i profil SAS efektywnie formują składowe pochodzące od dużych odległości międzyziarnowych (szybkozmienne w obszarze niskich kątów).. Dla niskokątowego maksimum hkl=(000) padające promieniowanie jest przez atomy “uginane w przód”, a tym samym fazy fal rozproszonych na wszystkich atomach automatycznie spełniają warunek konstruktywnej interferencji. I to niezależnie od pozycji atomu (w sieci krystalicznej lub poza nią). Dlatego SAS nie jest czułe na strukturę atomową materiału i otrzymywany tą techniką rozmiar ziarna jest rozmiarem “brutto”, czyli uwzględnia krystalit łącznie ze wszystkimi zaadsorbowanymi na jego powierzchni molekułami.

Zgodnie z powyższym, różnica ΔR=RSAS-RBragg rozmiarów wyznaczanych dla tych samych proszków z linii bragowskich i z krzywych SAS powinna odpowiadać grubości otoczki nanokryształu złożonej z zaadsorbowanych na nim obcych atomów (rys. 5.19a). Trzeba jednak wyraźnie powiedzieć, że do zaobserwowania tak nieznacznych różnic rozmiaru konieczna jest niezwykle ostrożna analiza danych doświadczalnych. Np. sama obecność błędów ułożenia powoduje poszerzenie linii odpowiadające znacznie większym różnicom rozmiarów niż spodziewana grubość zanieczyszczeń okołokrystalicznych. Dlatego autor odważył się porównywać rozmiary ziaren otrzymanych z danych niskokątowych wyłącznie z rozmiarami pochodzącymi z metody ab initio wyznaczania rozkładu wielkości ziaren (metoda ta uwzględnia obecność błędów ułożenia w strukturze, por. §5.2).

Na podstawie systematycznej różnicy ΔR=RSAS-RBragg można przypuszczać, że badane próbki nanokrystalicznego SiC posiadały na swojej powierzchni warstwę obcych molekuł o grubości ok. 3Å, tab. 5.4. Prosty eksperyment przeprowadzony w czasie przygotowywania próbek nanokrystalicznego SiC do pomiarów dyfrakcyjnych pozwala na stwierdzenie, że na powierzchni ziaren adsorbuje się powietrze: nanoproszek umieszczony w eksykatorze próżniowym podczas wypompowywania zeń powietrza gwałtownie “wrze” przez kilkanaście sekund. Po doprowadzeniu powietrza na kilka minut i ponownym jego odpompowaniu wrzenie następuje znów, ale jest słabsze. Rzeczywiście, promień kowalencyjny azotu i tlenu wynosi ok. 0.75Å, a więc całkowita długość cząsteczki N2 i O2 wynosi ok. 3Å. Odpowiada to zmierzonej dyfrakcyjnie grubości otoczki molekularnej na nanokryształach SiC, rys. 5.19a. Hipotezę o zaadsorbowanym na nanokryształach powietrzu potwierdzają także pomiary TGA (Thermal Gravity Analysis) w połączeniu ze spektrometrią masową: nanokryształy po wygrzaniu w próżni stają się lżejsze o masę odpowiadającą w przybliżeniu pojedynczej warstwie cząsteczek gazu na swej powierzchni (tlen i azot mają zbliżone masy cząsteczkowe). Obok azotu i tlenu emitowane są NO, NO2, CO, CO2 i H2O. Na rysunku 5.19b pokazano spadek ubytek masy nanoproszku w trakcie jego wygrzewania w strumieniu gazów szlachetnych: argonu i helu, unoszących z materiału uwolnione zanieczyszczenia.

a) a) Średni rozmiar b)a) Średni rozmiar
Figure 5.19: a) Średni rozmiar R nanokryształów SiC zmierzony na podstawie linii bragowskich SiC był o ok. 6Å mniejszy od rozmiaru wyznaczonego z rozpraszania niskokątowego tego samego materiału. Różnica mogłaby pochodzić od zaadsorbowanego na powierzchni nanokryształów powietrza (promień kowalencyjny tlenu i azotu wynosi ok. 0.75Å, więc długość całej cząsteczki to ok. 3Å); b) ubytek masy nanoproszku w trakcie jego wygrzewania w strumieniu gazów szlachetnych.

5.4.3.2 Przemiany mikrostruktury proszku w czasie wysokociśnieniowego zagęszczania

Proces zagęszczania nanoproszków polikrystalicznych, można podzielić na pięć etapów [36]:

  1. 1.

    Wyjściowy materiał składa się z mieszaniny pojedynczych ziaren, ich łańcuchów i aglomeratów. Stopień zagęszczenia jest mały i proces przebiega dzięki elastyczności wiązań pomiędzy ziarnami. Na tym etapie wyjściowa sieć ziaren odkształca się elastycznie ale ziarna nie przemieszczają się względem siebie.

  2. 2.

    Zagęszczanie przyspiesza z powodu odkształceń kwazi-plastycznych. Sieć ziaren deformuje się i przebudowuje poprzez poślizgi i obroty ziaren. Przemieszczanie ziaren w nanoproszkach jest ograniczone dużymi siłami tarcia ziaren. Opory spowodowane tarciem są znaczne ze względu na liczne punkty kontaktów między ziarnami.
    To zachowanie może być porównane do przekroczenia granicy plastyczności w ciałach stałych. Należy jednak zaznaczyć, że nie jest ono powodowane własnościami sieci krystalicznej czy jej defektów lecz własnościami powierzchni i granic ziaren.

  3. 3.

    Sieć ziaren odkształca się elastycznie i plastycznie do momentu, kiedy nacisk osiąga wartość krytyczną - “granicę płynięcia”. W tych warunkach ciśnienia pękają wiązania pomiędzy poszczególnymi ziarnami. Składowa ścinająca przyłożonego nacisku powoduje przemieszczenia ziaren i zapadanie dużych porów. Przebudowa struktury ziaren i makroskopowa deformacja porów zwiększa liczbę kontaktów między ziarnami. Stykające się ziarna obracają się i ślizgają aby osiągnąć minimum energii powierzchniowej.

  4. 4.

    Proszek stale zagęszcza się w miarę postępu kwazi-plastycznej przebudowy układu ziaren. Zagęszczanie przebiega względnie szybko dopóki materiał nie osiągnie gęstości bliskiej wartości teoretycznej.

  5. 5.

    Gęsty i jednolity kompakt nanokrystaliczny jest ściskany dalej tak jak na to pozwalają własności mechaniczne jego sieci krystalicznej i granic ziaren. Stanowi on na tym etapie jednolity materiał.

Pierwszy etap, który nie powoduje jeszcze przemieszczania ziaren a jedynie naprężenia ich sieci krystalicznej następuje dla badanych nanoproszków SiC i diamentu w ciśnieniach ok. 0-0.2GPa (tab. 5.5 i rys. 5.18b i c). W ciśnieniu 0.6GPa obserwuje się pierwsze istotne zmiany struktury fraktalnej ziaren - jest to drugi etap zagęszczania. We wszystkich badanych proszkach (tab. 5.5) stwierdzono zmniejszenie masowego wymiary fraktalnego DM, co jest spowodowane załamywaniem się w tym ciśnieniu włókien pozrastanych nanokryształów. Proszek gwałtownie zmniejsza swoją objętość. Trzeci etap zagęszczania zaobserwowano w ciśnieniu ok. 6GPa. Zakończony zostaje proces degradacji struktury fraktalnej. Proszek składa się bądź z osobnych ziaren bądź z bardzo krótkich ich łańcuchów, które przemieszczają się względem siebie szukając orientacji minimalizującej energię powierzchniową. Dla jednej z próbek SiC (rys. 5.18c) zaobserwowano niewielkie maksimum interferencyjne wskazujące na tworzenie się periodycznej sieci ziaren w proszku. W czterech z sześciu próbek, w najwyższym ciśnieniu 6.3GPa, nachylenie ultraniskokątowej części krzywej SAS było większe niż w minimalnym ciśnieniu (tab. 5.5). Jest to spowodowane tworzeniem się z rozbitych fraktali gęstych aglomeratów ziaren o rozmiarach kilkuset nm. Czwarty i piąty etap zagęszczania nie zostały osiągnięte dla przyłożonych w eksperymencie ciśnień.

Fraktalność struktury proszków nanokrystalicznych jest faktem ważnym ze względu na zastosowania. Wytrzymała mechanicznie (nie degraduje się do 2000 atmosfer!) sieć obiektów o rozmiarach kwantowych pozwalająca związać (i uwolnić) na swojej powierzchni tyle gazu ile sama waży77 7 Dla ziaren o średnicy 20Å. (czyli około 1dm3 na każdy gram nanoproszku) posiada wiele potencjalnych zastosowań. Jednym z nich jest bezpieczne, niskociśnieniowe przechowywanie materiałów pędnych (np. wodoru). Ważna jest przy tym nie tylko powierzchnia aktywna ale i sama budowa fraktala (gęstość malejąca od centrum ziarna), która pozwala na szybkie uwalnianie dużego strumienia cząstek. Innym przykładem zastosowań fraktalnych ziaren nanometrowych jest optoelektronika. Świecący na niebiesko porowaty krzem z wodorem związanym na swojej powierzchni wywołał swego czasu duże poruszenie wśród fizyków szukających źródeł niebieskiego światła. Spiekanie z nanoproszków gęstych, supertwardych i plastycznych ceramik wymaga ich zagęszczania, a więc znajomości mechanizmu i warunków w jakich fraktale nanokryształów się degradują [8][38][45][34][35][44][40][9]. Pokazano, że następuje to w izostatycznym ciśnieniu rzędu kilku GPa.

5.5 Wpływ ciśnienia na strukturę nanokryształów GaN

5.5.1 Wprowadzenie

Relaksacja naprężeń sieci krystalicznej w nanometrowych polikryształach azotku galu jest procesem, który jednocześnie zmienia strukturę i mikrostrukturę tego materiału. W odróżnieniu od materiałów supertwardych, takich jak węglik krzemu czy diament (por. [43][39]), nanokryształy GaN ulegają odkształceniom plastycznym wobec stosunkowo niewielkich88 8 Nanoproszek GaN ściskany w warunkach niehydrostatycznych ulega odkształceniom plastycznym w ciśnieniach rzędu pojedynczych GPa podczas gdy odkształcenia nanokryształów SiC i diamentu są wyłącznie elastyczne przynajmniej do ciśnień rzędu 40GPa (tyle wynosi największe uzyskane przez nas ciśnienie). sił przykładanych do ich ścian. Naprężenia sieci krystalicznej relaksują wtedy poprzez ruch dyslokacji, początkowo wzdłuż płaszczyzn (0001), gdyż te mają w strukturach hexagonalnych najmniejszą energię aktywacji. Przemieszczenia płaszczyzn krystalicznych w tym kierunku zmieniają sekwencję politypową krystalitu (a więc jego strukturę) co stanowi mierzalny metodami dyfrakcyjnymi ślad po całym procesie. Poniżej prezentujemy wyniki symulacji numerycznej wprowadzania błędów ułożenia do struktury 2H. Dyfraktogramy obliczone metodą ab initio na poszczególnych jego etapach zostaną porównane do danych doświadczalnych zmierzonych dla GaN we wzrastających ciśnieniach niehydrostatycznych (por. [41][12][11] oraz [37]).

5.5.2 Materiał i eksperyment

Zbadano nanokrystaliczny proszek GaN o ziarnach wielkości 20nm zsyntezowany z polimerów metaloorganicznych [18]. Nanokryształy zostały poddane działaniu wysokiego ciśnienia, do 20GPa, w komórce diamentowej (Diamond Anvil Cell, DAC) w temperaturze pokojowej, rys.5.9. Dane dyfrakcyjne zebrano w geometrii z ustalonym kątem detektora czułego na fotony o różnych energiach (energy dispersive), por. paragraf 5.1.4.1. Zewnętrzny nacisk był przenoszony na nanokryształy GaN bez pośrednictwa ośrodka ciśnieniowego (warunki niehydrostatyczne). Pomiar ciśnienia odbywał się poprzez badanie parametru sieci złota, dodanego w niewielkiej ilości do próbek GaN.

Zaobserwowano zmianę względnych natężeń linii dyfrakcyjnych połączoną z ich silną deformacją i podniesieniem poziomu tła, rys. 5.20. Wskazuje to na strukturalne przemiany w azotku galu w warunkach silnych naprężeń.

Dyfraktogramy proszkowe tej samej
próbki nanokrystalicznego
Figure 5.20: Dyfraktogramy proszkowe tej samej próbki nanokrystalicznego GaN mierzone w warunkach normalnych w DAC: przed (linia przerywana) i po przyłożeniu a następnie zdjęciu ciśnienia 20GPa.

5.5.3 Model wprowadzania błędów ułożenia

Błędy ułożenia mogą być wprowadzane do kryształów o strukturze najgęstszego upakowania podczas ich wzrostu bądź wskutek relaksacji naprężeń sieci krystalicznej. Podczas wzrostu nowych warstw kryształu nie ma ograniczeń co do wyboru pozycji politypowych tych warstw, dlatego tworząca się struktura błędów ułożenia może być dowolna (w szczególności możliwe są błędy typu extrinsic, por. 5.1.2). Inaczej jest w przypadku istniejącego już kryształu z naprężeniami sieci: dla ich rozładowania musi nastąpić jej częściowa rekonstrukcja (odkształcenie plastyczne). Jednak nie każdy mechanizm dyslokacyjny, który rekonstrukcję umożliwia jest jednakowo prawdopodobny. W strukturach najgęstszego upakowania, szczególnie zawierających błędy ułożenia, najbardziej prawdopodobna płaszczyzna poślizgu to (0001) [22, str.587]. Dlatego w warunkach stopniowo wzrastającego nacisku (a więc i naprężeń) w pierwszym rzędzie można oczekiwać poślizgów wzdłuż tych właśnie płaszczyzn (w coraz wyższych ciśnieniach uruchamiać się będą również mechanizmy dyslokacyjne dla płaszczyzn krystalicznych o większych energiach aktywacji ruchu dyslokacji). Poślizgi wzdłuż płaszczyzn (0001) oprócz niskiej energii aktywacji mają też tę szczególną cechę, że przemieszczenie (czyli wektor poślizgu) nie musi być równy wektorowi translacyjnemu sieci [22, str.588]. Częściowe przemieszczenie zmienia strukturę politypową kryształu i daje tym samym szansę obserwacji postępów procesu relaksacji naprężeń metodami dyfrakcyjnymi. Wykorzystując prosty model przesunięć warstw (0001) i opisane w paragrafie 4.2.1 obliczenia ab initio dyfrakcji na nanokryształach postaramy się prześledzić proces powstawania błędów ułożenia spowodowany naprężeniami sieci krystalicznej w czystej strukturze 2H na przykładzie nanokryształów azotku galu.

Aby wyjaśnić obserwowane doświadczalnie zmiany dyfraktogramów GaN przyjęty został prosty model powstawania błędów ułożenia w wysokim ciśnieniu niehydrostatycznym. W pierwszej fazie zagęszczania proszku nanokrystalicznego ziarna przemieszczają się względem siebie formując układ zbliżony do najgęściej upakowanego. W tej fazie mamy do czynienia z łamaniem ewentualnych struktur fraktalnych ziaren i gwałtownym zmniejszaniem objętości próbki. Po zakończeniu tego procesu ziarna proszku zostają “uwięzione” w swoich położeniach przez swych sąsiadów. Dalsze zwiększanie nacisku nie powoduje już gwałtownego zapadania się materiału - pojawiają się natomiast silne naprężenia. Wobec braku ośrodka ciśnieniowego nanokryształy oddziaływają ze sobą bezpośrednio. Naprężenia powstające w punktach styku ziaren relaksują poprzez poślizgi wzdłuż płaszczyzn (0001). Obserwuje się, że deformacja kryształu przez poślizg jest niejednorodna [22]. Mamy do czynienia z jednoczesnymi poślizgami wzdłuż wielu równoległych płaszczyzn kryształu, pomiędzy którymi istnieje niezdeformowana jego część. W nanokryształach płaszczyzny te są siłą rzeczy nieodległe i w granicznym przypadku cały proces deformacji plastycznej można przedstawić jako ciąg przesunięć pojedynczych warstw (0001) przy zachowaniu niezmienionego położenia wszystkich atomów nienależących do aktualnie przesuwanej warstwy.

Proces przesuwania pojedynczych płaszczyzn (0001) prowadzi do zmian sekwencji politypowej w krysztale, rys. 5.21.

Model powstawania
błędów ułożenia poprzez indukowane naprężeniami (
Figure 5.21: Model powstawania błędów ułożenia poprzez indukowane naprężeniami (F) przesunięcia warstw hexagonalnych (0001) w GaN. Przesunięcie pojedynczej warstwy (tutaj z pozycji B na A) powoduje silną zmianę sekwencji politypowej (z chc na hhh). Z racji ograniczeń krystalograficznych możliwe są tylko takie przesunięcia, które nie prowadzą do sekwencji niefizycznych (np. ABCABBCABC). W tle zdjęcie nanokryształu wykonane techniką HRTM.

Jednak nie wszystkie sekwencje politypowe mogące się pojawić w opisywanym procesie są dozwolone: dwie sąsiednie płaszczyzny nie mogą być w tych samych pozycjach (…AA…, …BB…, …CC…). Z racji tych ograniczeń uwzględnione mogą być tylko przesunięcia nie prowadzące do zabronionych konfiguracji warstw. Jak łatwo stwierdzić tylko czysta struktura hexagonalna (2H) daje całkowitą swobodę wyboru miejsca pierwszego przesunięcia: każda z warstw (0001) ma wtedy obie sąsiednie warstwy będące w tej samej pozycji (np. …ABABABABAB…: każda warstwa B jest otoczona przez dwie A i odwrotnie, patrz paragraf 5.1.1), dzięki czemu sama może przejść do alternatywnej pozycji (np. z B do C lub z A do C). Po wprowadzeniu pierwszego i następnych błędów ułożenia rośnie liczba warstw kubicznych w związku z czym w procesie relaksacji naprężeń zwiększa się ilość przesunięć niedozwolonych. Proces ten, prowadzony w opisany sposób, zbiega do struktury całkowicie nieuporządkowanej, rys. 5.22. Struktura nieuporządkowana składa się z mieszaniny domen typu 2H i 3C o różnej długości, (por. paragraf 5.1.2.2).

Przeciwnie do czystej struktury 2H, czysta struktura 3C gwarantuje niemal całkowitą odporność na przesunięcia wprowadzane według proponowanego modelu. W strukturze kubicznej prawie każda warstwa sąsiaduje z dwiema innymi, będącymi w różnych pozycjach (np. ABCABCABC: A sąsiaduje z B i C, B sąsiaduje A i C, C sąsiaduje z A i B), co zmusza ją do pozostawania w pozycji wyjściowej, gdyż dowolne jej przesunięcie powodowałaby powstanie zabronionej sekwencji dwóch identycznych warstw. “Prawie” każda, gdyż dwie warstwy powierzchniowe mają tylko jednego sąsiada, a co za tym idzie - możliwość relaksacji naprężenia przez przesunięcie do innej pozycji. Powierzchnia jest jedynym miejscem, gdzie mogą tworzyć się błędy ułożenia. Pomimo tego, że w przypadku kryształów nanometrowych dwie warstwy powierzchniowe stanowią istotną część wszystkich warstw kryształu, rozporządkowanie struktur 3C poprzez przesunięcia pojedynczych warstw jest zdecydowanie trudniejsze niż jakichkolwiek innych politypów, rys.5.23.

Przebieg symulacji wprowadzania błędów
ułożenia do ziarna o wyjściowej strukturze
Figure 5.22: Przebieg symulacji wprowadzania błędów ułożenia do ziarna o wyjściowej strukturze 2H według modelu przesunięć warstw (0001). Sekwencja 60 warstw odpowiada krystalitom o średnicy około 150Å. Lewa kolumna wydruku to krok symulacji, środkowa: chwilowa struktura politypowa (warstwy h zacienione), prawa: hexagonalność kryształu. Brakujące kroki symulacji odpowiadają (zablokowanym) próbom dokonania niefizycznego przesunięcia.
Przebieg symulacji wprowadzania błędów
ułożenia do ziarna o wyjściowej strukturze
Figure 5.23: Przebieg symulacji wprowadzania błędów ułożenia do ziarna o wyjściowej strukturze 3C według modelu przesunięć warstw (0001). Sekwencja 60 warstw odpowiada krystalitom o średnicy około 150Å. Lewa kolumna wydruku to krok symulacji, środkowa: chwilowa struktura politypowa (warstwy h zacienione), prawa: hexagonalność kryształu. Brakujące kroki symulacji odpowiadają (zablokowanym) próbom dokonania niefizycznego przesunięcia.

Symulację wprowadzania jednowymiarowego nieporządku prowadzono według następującego algorytmu:

  1. 1.

    Ustal wyjściową sekwencję politypową
    np. 19-warstwowa sekwencja ’BA BCAB ACBACB CAB ACBA’, jak na rys. 5.21

  2. 2.

    Wybierz losowo warstwę - kandydata na przesunięcie
    np. 12-tą warstwę sekwencji ’BA BCAB ACBACB CAB ACBA’, z rys. 5.21

  3. 3.

    Sprawdź, czy jej przesunięcie nie doprowadzi do niefizycznej sekwencji
    jeśli nie: kontynuuj
    jeśli tak: wróć do kroku 2 (ponów losowanie)
    tutaj: przesunięcie prowadzi do sekwencji ’BA BCAB ACBACA CAB ACBA’, dozwolonej, jak na rys. 5.21

  4. 4.

    Dokonaj przesunięcia warstwy (bieżąca sekwencja zmienia się)
    nowa sekwencja jest teraz ’BA BCAB ACBACA CAB ACBA’, jak na rys. 5.21

  5. 5.

    Kontynuuj od kroku 2 z bieżącą sekwencją

Prawdopodobieństwo udanego (fizycznego) przesunięcia warstwy w kroku 3-4 jest w zasadzie proporcjonalne do liczby warstw h w krysztale. Liczba przesunięć określa stopień zaawansowania procesu rozporządkowywania struktury wyjściowej i jest unormowana do liczby warstw (Przesunięcia na warstwę, Shifts Per Layer, SPL). Określa ona liczbę wszystkich przesunięć, czy raczej “prób przesunięć”, włączając w to również te nieefektywne.

Proces implementacji błędów ułożenia według założonego mechanizmu można podzielić na dwie fazy, rys. 5.24b:

  1. 1.

    wzrost hexagonalności w przedziale SPL(0,1)

  2. 2.

    spadek hexagonalności powyżej 1SPL

a)Proces rozporządkowania pięciu
struktur politypowych:
b)Proces rozporządkowania pięciu
struktur politypowych:
Figure 5.24: Proces rozporządkowania pięciu struktur politypowych: 2H(sekwencja AB), 3C(ABC), 4H(ABCB), 6H(ABCACB) i 8H(ABCABACB) prowadzonego według modelu przesunięć warstw (0001). Liczba przesunięć została unormowana do liczby warstw w krysztale (Shifts Per Layer, SPL). Niezależnie od liczby warstw: (a) 50 warstw, ziarno około 120Å; (b) 10000 warstw, ziarno około 2.5μm, większość politypów przechodzi w stan całkowitego nieuporządkowania po 10SPL. Wyjątek stanowi czysta struktura 3C, która osiąga zauważalną hexagonalność wyłącznie w przypadku ziaren nanometrowych. Fluktuacje dla modelu małego ziarna (a) związane są ze słabą statystyką: pojedyncze przesunięcie może powodować wzrost hexagonalności nawet o 250100%=4%.

Aby wyjaśnić powody istnienia maksimum hexagonalności dla większości politypów potrzebna jest dokładniejsza analiza zmian sekwencji politypowych w trakcie procesu wprowadzania błędów ułożenia.

5.5.4 Operatory zmiany sekwencji

Zgodnie z przyjętym mechanizmem powstawania błędów ułożenia, efekt przesunięcia pojedynczej warstwy (0001) zależy od pozycji obu warstw z nią sąsiadujących. W tabeli 5.6 wymieniamy wszystkie warianty sekwencji politypowych mogących powstać na skutek przesunięcia pojedynczej warstwy h dla trzech konfiguracji jej otoczenia:

  • przesuwamy samotną warstwę h (’h’ otoczone warstwami typu c):
    wynik: chchhh, kreacja dwóch dodatkowych warstw h

  • przesuwamy parę warstw typu h (’hh’ otoczone warstwami typu c):
    wynik: chhhhc, liczba warstw h niezmieniona lecz wynikowa para jest przesunięta o jedną pozycję

  • przesuwamy trójkę warstw typu h (’hhh’ otoczone warstwami typu c):
    wynik: chhhhhch, lub: hhhchchh, lub: hhhchc, wtrącenie warstwy c w sekwencję bądź anihilacja dwóch warstw h, zależnie od miejsca przyłożonego przesunięcia

    ’h’ ’hh’ ’hhh’
    I. wyjściowa sekwencja hc xcchccx xcchhccx xcchhhccx
    wyjściowa sekwencja ABC ABCACBA ABCACABC ABCACACBA
    miejsce przesunięcia    |    |    |
    nowa sekwencja ABC ABCBCBA ABCBCABC ABCBCACBA
    nowa sekwencja hc xchhhcx xchhcccx xchhchccx
    wynik hhhh hhhh hhhhh+h
    II. wyjściowa sekwencja hc xcchhccx xcchhhccx
    wyjściowa sekwencja ABC ABCACABC ABCACACBA
    miejsce przesunięcia     |     |
    nowa sekwencja ABC ABCABABC ABCABACBA
    nowa sekwencja hc xccchhcx xccchcccx
    wynik hhhh hhhh
    III. wyjściowa sekwencja hc xcchhhccx
    wyjściowa sekwencja ABC ABCACACBA
    miejsce przesunięcia      |
    nowa sekwencja ABC ABCACBCBA
    nowa sekwencja hc xcchchhcx
    wynik hhhhh+h
    Table 5.6: Możliwe warianty zmian sekwencji hc politypu spowodowane pojedynczym przesunięciem płaszczyzny (0001) dla trzech wyjściowych sekwencji: ’h’, ’hh’ i ’hhh’.

Łatwo zauważyć, że trzeci wynik jest złożeniem dwóch pierwszych, mianowicie:

  • przejście: hhhchc jest przejściem odwrotnym w stosunku do wyniku pierwszego

  • przejście: chhhhhch można rozłożyć na: przesunięcie chhhhc (wynik drugi) i zachowanie skrajnej warstwy h niezmienionej hh

Analogiczna analiza coraz dłuższych sekwencji warstw typu h (patrz np. rys. 5.22a) pokazałaby, że każdą przemianę sekwencji politypowej kryształu powstałą w oparciu o prezentowany model przesunięć płaszczyzn (0001) można zapisać jako złożenie dwóch podstawowych operacji:

G : chchhh (5.6)
P : chhhhc (5.7)

oraz odpowiednich operacji odwrotnych:

G-1 : hhhchc (5.8)
P-1 : hhcchh (5.9)

5.5.5 Rozkład długości domen

Ewolucję rozkładu długości domen najdogodniej jest prześledzić na przykładzie bardzo długiej sekwencji czystego politypu 2H, rys. 5.25.

  • SPL(0,0.001) W początkowej fazie procesu operator G-1 dzieli każdą długą wyjściową domenę 2H na dwie mniejsze (wciąż duże), tworząc jedną izolowaną warstwę h (wzrost liczebności domen o długości 1) i dwie warstwy c.

  • SPL(0.001,0.01) W pewnym momencie gwałtownie wzrasta prawdopodobieństwo znalezienia krótkiej99 9 Krótkiej w porównaniu do długości domeny wyjściowej, tj. długości rzędu kilkudziesięciu warstw. domeny hexagonalnej i to praktycznie niezależnie od jej długości. Nieco bardziej prawdopodobne są domeny najkrótsze1010 10 Zwłaszcza w przypadku nanokryształów; dokładniejsza dyskusja dalej.. Kryształ osiąga przejściowy stan nieuporządkowania, w którym rozkład długości domen jest “biały” (prawdopodobieństwo znalezienia każdej długości jest podobne).

  • SPL(0.01,1) W dalszym ciągu następuje rozbicie domen o bardzo zróżnicowanej długości na krótsze, o podobnych długościach. Jednocześnie operator G-1 tworzy przy każdym podziale domeny jedną izolowaną warstwę h, ich liczba jest więc niepomiernie większa od domen o większych długościach, rys. 5.25b. Przy tej okazji anomalnie wzrasta też liczba domen o długości 3, z racji własności operatora G. Kolejną możliwą konwersją jest “doklejenie” wędrujących domen ’hh’ do powstających w dużych ilościach domen o długościach 1 i 3. Zwiększa to prawdopodobieństwo powstania domen 3 i 5 (maksima na rys. 5.25b). Dokonuje się inwersja obsadzeń domen o długościach 2-3, 4-5, itd. na korzyść tych nieparzystych.

  • SPL(0.1,10) Równolegle operacje P i P-1 “rozprowadzają” nierównowagowe domeny o nieparzystych długościach. W ten sposób równolegle do podziału domen dłuższych na krótsze następuje konwersja nadreprezentowanych najkrótszych domen w krysztale. Maksima z rys. 5.25b zanikają.

  • SPL>10 Następuje uformowanie ostatecznego rozkładu wielkości domen charakterystycznego dla kryształu całkowicie nieuporządkowanego.

    a) ( (
    b) ( (
    Figure 5.25: Rozkład długości domen (DS, pozioma oś liniowa) hexagonalnych w trakcie wprowadzania błędów ułożenia do krystalitu o strukturze 2H i długości 1000000 warstw. Zaawansowanie procesu tworzenia nieporządku wyrażone jest w przesunięciach na warstwę (Shifts Per Layer, SPL, pozioma oś logarytmiczna), a jego kierunek zaznaczono strzałką. Liczba domen (oś pionowa) została unormowana do liczby domen w krystalicie. W skali logarytmicznej (a) widać fazę procesu (“kanał”), w której spektrum długości domen jest białe. W skali liniowej (b) widać maksima rozkładu dla domen o długościach nieparzystych (1,3,5). W ostatniej fazie procesu (SPL>100) domeny budują wykładniczy rozkład długości - stan całkowitego nieuporządkowania.

Proces wprowadzania błędów ułożenia do innych politypów (4H, 6H, 8H) przebiega podobnie (rys. 5.26) z tym zastrzeżeniem, że bardzo długie domeny hexagonalne nie istnieją w nich od samego początku, więc przedmiotem dzielenia są raczej odpowiednie, długie domeny 4H, 6H i 8H. Zachowują natomiast ważność uwagi na temat konwersji nadreprezentowanych najkrótszych domen hexagonalnych i tworzenia ostatecznego rozkładu domen struktury nieuporządkowanej. Proces rozporządkowywania struktury 3C jest w ramach prezentowanego modelu całkowicie nieefektywny (rys. 5.26-3C). Można mówić o całkowitej rezystywności długich domen 3C na wprowadzanie błędów ułożenia opisywaną metodą.

Równolegle do rozporządkowywania domen hexagonalnych następuje tworzenie (struktura 2H) lub przekształcenie (struktury 4H, 6H, 8H) rozkładu wielkości domen 3C, rys. 5.26, kolumna II. W przypadku struktury 2H każdy akt podziału domeny przy pomocy operatora G-1 tworzy dwie domeny 3C o długości 1 (warstwy typu c). Tak więc od samego początku procesu następuje przyrost ich liczby. W innych politypach domeny 3C występują natywnie, np. w 4H mają one długość 1, i następuje tylko ich konwersja do innych długości w okolicznościach podobnych do opisanych poprzednio dla domen hexagonalnych.

Pod koniec procesu rozporządkowywania (SPL>10) tworzy się końcowy rozkład wielkości domen 3C odpowiadający strukturze całkowicie nieuporządkowanej, identyczny z rozkładem domen 2H.

Rozkład długości domen typu 2H Rozkład długości domen typu 3C
2H Rozkład długości domen ( Rozkład długości domen (
4H Rozkład długości domen ( Rozkład długości domen (
3C Rozkład długości domen ( Rozkład długości domen (
Figure 5.26: Rozkład długości domen (Domain Size, DS, pozioma oś liniowa) typu 2H (lewa kolumna) i 3C (prawa kolumna) podczas procesu wprowadzania błędów ułożenia do czystych politypów 2H, 4H i 3C (kolejne wiersze). Wzrastającej liczbie przesunięć na warstwę (Shift Per Layer, SPL, pozioma oś logarytmiczna) towarzyszy ewolucja rozkładu wielkości domen aż do stanu odpowiadającego całkowitemu nieuporządkowaniu (przy SPL100). Wyjątek stanowi struktura 3C.

5.5.6 Rozkład długości domen kryształu nieuporządkowanego

Rozkład długości domen całkowicie nieuporządkowanego kryształu jest rozkładem wykładniczym, co dobrze widać na rys. 5.26 (prosta linia rozkładu dla SPL>100 w skali logarytmicznej). Jest on dany wzorem:

DSD(x)=aexp(-ax), (5.10)

gdzie a=ln2. Lub podstawiając a:

DSD(x)=ln22x

Jest to zgodne z przewidywaniami, ponieważ właśnie taki rozkład długości miałyby domeny budowane poprzez losowanie kolejnych warstw (h lub c) z równym prawdopodobieństwem1111 11 Prawdopodobieństwo, że wylosujemy warstwę h: P(h)=12, że wylosujemy dwie pod rząd: P(hh)=1212=122, trzy: P(hhh)=123, itd. 0.5, czyli całkowicie nieuporządkowane.

5.5.7 Rozkład długości domen w kryształach nanometrowych

Opis podany w 5.5.5 pozostaje w mocy także w odniesieniu do kryształów nanometrowych, z tym jednak zastrzeżeniem, że prawdopodobieństwo znalezienia domeny o długości większej niż rozmiar kryształu musi znikać. Nanokryształy są obiektami nie większymi niż kilkadziesiąt/kilkaset nanometrów, co odpowiada 100-1000 warstw. W takim przypadku, rys. 5.27, nie obserwujemy (poza największymi nanokryształami) fazy procesu rozporządkowania z bardzo szerokim rozkładem długości domen. W dalszym ciągu jest jednak obecna inwersja obsadzeń domen o długościach 2-3, 4-5, itd., na korzyść nieparzystych. Zostaje ona przełamana, tak jak w przypadku dużych kryształów, i tworzy się ostateczny, wykładniczy rozkład długości domen kryształu nieuporządkowanego.

a)Rozkład długości domen b)Rozkład długości domen
Figure 5.27: Rozkład długości domen 2H w trakcie wprowadzania błędów ułożenia do kryształu nanometrowego: 1000-warstwowego (a) i 100-warstwowego (b). Przy rozporządkowywaniu mniejszych nanokryształów nie ma fazy białego spektrum długości domen. Natomiast tworzenie finalnego rozkładu wykładniczego przebiega podobnie jak dla dużych kryształów (konwersja najkrótszych domen na dłuższe i “prostowanie” inwersji obsadzeń domen o długościach 2-3, 4-5). Dla zachowania zgodności z poprzednimi rysunkami zachowano, niepotrzebną tutaj, skalę SPL<0.001.

5.5.8 Rozkład długości domen a dyfrakcja

Postać rozkładu długości domen w warstwowym krysztale częściowo lub całkowicie nieuporządkowanym ma kapitalny wpływ na jego własności dyfrakcyjne. Na rys. 5.28a wykreślono profile trzech najsilniejszych refleksów GaN (101¯0, 0002 i 101¯1) odpowiadające zmieniającym się rozkładom długości domen 2H (5.28b) w trakcie symulowanego wprowadzania błędów ułożenia pod wpływem wysokiego ciśnienia niehydrostatycznego. Najsilniejszej degradacji w trakcie wprowadzania błędów ułożenia doznaje maksimum (101¯1). Odpowiada ono rodzinie płaszczyzn przecinających warstwy hexagonalne (0001) pod kątem ostrym. Gładka w strukturze 2H płaszczyzna (101¯1) jest “cięta” przez błędy ułożenia na coraz krótsze paski o szerokości kryształu i długości 1-3-5 warstw, wynikającej z rozkładu długości domen 2H (5.28b). Jest to wyraźnie widoczne w fazie wyrównywania inwersji obsadzeń domen o długościach 4-5, w której zmniejsza się liczba domen najdłuższych (5). Podobny proces ma miejsce w odniesieniu do maksimum (101¯0), odpowiadającego płaszczyznom prostopadłym do warstw hexagonalnych (0001). Natężenie maksimum (0002) pozostaje w zasadzie niezmienione, jeśli nie liczyć silnie podniesionego poziomu tła. Tło jest bardzo charakterystycznym elementem profili dyfrakcyjnych struktur nieuporządkowanych a bierze się ze znacznej liczby obiektów zbyt krótkich (domeny o długościach 1 i 2) i ułożonych wzajemnie w sposób eliminujący konstruktywną interferencję. Końcowy stan całkowitego nieuporządkowania kryształ osiąga po wprowadzeniu ok. 10 przesunięć na jedną warstwę. Oznaczałoby to przejście ponad stu dyslokacji w pojedynczym nanokrysztale, co jest liczbą dużą, ale jest możliwe (obserwuje się doświadczalnie, że dojście do stanu całkowitego nieuporządkowania wymaga przyłożenia ciśnienia rzędu kilkudziesięciu GPa i/lub aktywacji termicznej).

Hipotezę o chwilowym istnieniu układu z przewagą domen o długościach nieparzystych wydają się potwierdzać jego szczególne własności dyfrakcyjne. Mianowicie, w stadium procesu rozporządkowania odpowiadającemu SPL1 mamy (rys. 5.28b) już do czynienia z domenami całkowicie rozdrobnionymi, równie rozdrobnionymi jak dla SPL100 - obie fazy procesu różnią się tylko proporcjami obsadzeń długości 1-3-5 i 2-4. Odpowiadające tym fazom dyfraktogramy proszkowe (rys. 5.28a) różnią się jednak w sposób zasadniczy, co pozwala na ich odróżnienie, np. przez porównanie proporcji natężeń linii (0002) i (101¯1). Zostało to zaobserwowane doświadczalnie.

(a) Rozkład długości domen ( (a) Rozkład długości domen (
a) b)
Figure 5.28: (a) Rozkład długości domen (DS, pozioma oś liniowa) typu 2H w trakcie procesu wprowadzania błędów ułożenia do sferycznego ziarna GaN o grubości 80 warstw (100Å średnicy). Postęp rozporządkowywania wyrażony jest w liczbie przesunięć płaszczyzn (0001) unormowanej do liczby warstw (Shifts Per Layer, SPL, pozioma oś logarytmiczna). (b) Dyfraktogramy proszkowe GaN odpowiadające kolejnym stadiom procesu z rys. (a) symulowane zmodyfikowaną metodą Debye’a (model proszku polidyspersyjnego dla kryształów z błędami ułożenia MLRDF/LCF, patrz 4.2.4). Widoczne (od lewej) maksima: (101¯0), (0002) i (101¯1).

5.5.9 Wyniki eksperymentalne

Dyfraktogramy proszkowe nanokryształów GaN zostały zmierzone w komórce diamentowej we wzrastających ciśnieniach1212 12 Ciśnienie ustalano za pomocą pomiaru zmian wartości parametru sieci złota, którego drobiny zostały dodane do próbki azotku galu. Tak więc podane wartości p odpowiadają ciśnieniu hydrostatycznemu działającemu na drobiny złota w ośrodku tworzonym przez nanokryształy GaN., aż do 20.5GPa. Przedstawiono je w lewej kolumnie rys. 5.29. Jak widać na rys. 5.29, proporcje maksimów dyfrakcyjnych ulegają silnym zmianom: natężenia najsilniejszych linii (101¯0) i (101¯1) zmniejszają się, odpowiednio, do ok. 50% i 30% wyjściowych natężeń mierzonych względem linii (0002). Linia (0002) nie zmienia się w trakcie procesu, jeśli nie liczyć podniesionego tła. Wszystkie linie dyfrakcyjne silnie poszerzają się. Zaobserwowane zmiany były trwałe: po zdjęciu ciśnienia kształt i proporcje natężeń pozostały takimi jak w 20.5GPa. Pokazuje to, iż w materiale zaszły trwałe zmiany strukturalne, jakimi są wprowadzone w czasie procesu zagęszczania błędy ułożenia. W prawej kolumnie rys. 5.29 pokazano dyfraktogramy obliczone numerycznie ab initio tak, jak to opisano w paragrafie 4.2.1. Podczas obliczania dyfraktogramów użyto struktur krystalicznych GaN, będących wynikiem wprowadzania błędów ułożenia do czystej struktury 2H za pomocą przesunięć pojedynczych warstw (0001) tak, jak to opisano w paragrafie 5.5.3.

Porównanie profili dyfrakcyjnych nanokrystalicznego
Figure 5.29: Porównanie profili dyfrakcyjnych nanokrystalicznego GaN (ziarno 200Å) zmierzonych w wysokim ciśnieniu w komórce diamentowej w warunkach niehydrostatycznych (lewa kolumna) z krzywymi symulowanymi (prawa kolumna). Do symulacji użyto kulistych modeli ziaren GaN o średnicy 160Å z sekwencją politypową modyfikowaną metodą wprowadzania przesunięć warstw (0001). Liczba przesunięć na warstwę (Shifts Per Layer, SPL) określa stan nieuporządkowania struktury. Do obliczenia dyfraktogramów proszkowych użyto wzoru Debye’a. Widoczne (od lewej) maksima: (101¯0), (0002) i (101¯1). Ostatnie, czwarte maksimum krzywych eksperymentalnych pochodzi od kryształów złota, używanego jako wskaźnik ciśnienia.

Porównując pary dyfraktogramów w kolejnych wierszach rys. 5.29 widać, że obliczenia ab initio (krzywe po prawej) odtwarzają jakościowo przebieg krzywych doświadczalnych (po lewej). Wraz ze wzrastającym ciśnieniem refleksy widoczne na dyfraktogramach doświadczalnych poszerzają się i podnosi się natężenie tła. Odpowiednie krzywe teoretyczne zachowują się analogicznie. Różnice natężeń refleksów widoczne przy niskich ciśnieniach wynikają z przyjętego kształtu i rozmiaru ziaren. W symulacji używano kulistych modeli krystalitów, w których mamy tę samą liczbę atomów wzdłuż każdego kierunku krystalograficznego. Rzeczywiste nanokryształy GaN rosną zazwyczaj w postaci kolumn hexagonalnych, co drastycznie zmniejsza ilość par atomowych leżących w kierunkach ukośnych, również w kierunku (101¯1), zmniejszając tym samym natężenie odpowiedniego refleksu. Różnica szerokości linii jest związana z wielkością modeli użytych podczas obliczeń dyfrakcji, którą ustalono na 160Å z powodów ograniczeń numerycznych. Rozmiar mierzonych nanokryształów GaN jest większy, stąd szerokość linii dyfrakcyjnych - mniejsza. Wraz ze wzrostem ciśnienia (kolejne wiersze rys. 5.29) wpływ opisanych różnic kształtu i rozmiaru ziarna na obraz dyfrakcyjny zmniejsza się. Po (lewej) stronie rzeczywistych nanokryształów razem z ciśnieniem pojawiają się naprężenia sieci krystalicznej nieco poszerzając linie dyfrakcyjne (przejście od 1.53 do 5.96GPa). Po (prawej) stronie krzywych symulowanych struktura błędów ułożenia (rozkład długości domen 2H) staje się najsilniejszym czynnikiem kształtującym obraz dyfrakcyjny począwszy od przejścia z 0.2 do 0.4SPL (co odpowiada zmniejszeniu hexagonalności z P(h)=0.8 do 0.7). Od tego miejsca (p=10GPa, SPL=0.4, P(h)=0.7) wpływ kształtu i rozmiaru ziaren staje się tylko poprawką do kształtu dyfraktogramu określanego przede wszystkim przez strukturę błędów ułożenia gdyż koherentnie rozpraszające domeny 2H stają się małe (por. rys. 5.28b) w porównaniu do rozmiaru nanokryształu. Nie można również wykluczyć pękania rozciągłych w przestrzeni płytek i igieł GaN w wysokich ciśnieniach niehydrostatycznych, co także zbliża proporcje maksimów mierzonych do symulowanych. W ciśnieniu 20.5GPa nanokryształy GaN osiągają stan bliski całkowitemu nieuporządkowaniu (hexagonalność P(h)0.6) zaś rozkład długości domen 2H staje się wykładniczy (por. paragrafy 5.5.6 i 5.5.7).

5.5.10 Wnioski

Zaproponowany prosty model poprzez przesunięć pojedynczych warstw (0001) jest - jak sądzimy - jednym z prawdopodobnych mechanizmów relaksacji naprężeń w strukturach 2H. Przemawiają za tym dwa fakty: najmniejsza energia przejścia dyslokacji właśnie wzdłuż płaszczyzn (0001) oraz obecność w doświadczalnych danych dyfrakcyjnych charakterystycznych zmian powodowanych przez błędy ułożenia, tworzące się na skutek tych dyslokacji. Na przykładzie nanokryształów GaN pokazano, że obserwowane w wysokich ciśnieniach gwałtowne zmiany własności dyfrakcyjnych materiału można wyjaśnić za pomocą prezentowanego modelu. Mając pełną świadomość, że model ten nie uwzględnia szeregu zjawisk, które z pewnością zachodzą równolegle do wyżej opisanych (jak np. ścinanie kryształów wzdłuż warstw (0001)), można powiedzieć, że przesunięcia pojedynczych warstw (0001) są jednym z mechanizmów relaksacji naprężeń w nanokryształach o strukturze 2H i pokrewnych (np. strukturach najgęstszego upakowania z błędami ułożenia, jak SiC czy diamentu). Pokazano, że opisywane w pracy (§4.2) metody obliczeń ab initio w dyfrakcji proszkowej pozwalają śledzić przemiany dowolnie złożonych struktur atomowych, w tym ewolucję jednowymiarowego nieuporządkowania nanokryształów, niemożliwe do uchwycenia tradycyjnymi technikami.